[發明專利]一種深度圖上采樣邊緣增強方法

有效

• 申請號: 201310688388.4
• 申請日: 2013-12-16
• 公開（公告）號: CN103700071A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 喻莉;李旭;楊鈾;鐘剛;劉瓊
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 朱仁玲

1.一種基于局部像素統計特性的深度圖上采樣邊緣增強方法，包括以下步驟：

（1）對低分辨率的深度圖D進行上采樣得到高分辨的深度圖H；

（2）對低分辨率的深度圖D和高分辨率的深度圖H分別進行像素統計，統計出對應于每個像素值的像素點個數，并用直方圖進行表示；

（3）將得到的低分辨率統計直方圖D_h與高分辨率統計直方圖H_h進行對比分析，判斷出新增的像素值P(i,j)；

（4）利用統計出的低分辨率直方圖統計結果對這些新增像素值P(i,j)進行校正：

（4-1）對低分辨率深度圖進行邊緣提取，并根據低分辨率直方圖統計的結果分別求出邊緣兩側一定區域內出現頻率最高的像素值P_lmax、P_rmax，其中P_lmax是邊緣左側出現頻率最高的像素值，P_rmax是邊緣右側出現頻率最高的像素值；

（4-2）將提取的低分辨率的邊緣圖像進行上采樣，得到高分辨的精細邊緣，并定位邊緣的兩側；

（4-3）檢測高分辨率深度圖邊緣地帶的新增像素值所在的位置P_loc(i,j)，按下述公式進行校正，直到邊緣地帶的新增像素值全部處理完為止：

P(i,j)=Pl max,ifPloc(i,j)∈Ω1Pr max,ifPloc(i,j)∈Ω2]]>

其中，Ω₁為邊緣的左側區域，Ω₂為邊緣的右側區域。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述上采樣方法優選采用雙線性插值法。