[發明專利]結合三維及二維形貌的量測方法及裝置有效
| 申請號: | 201310688068.9 | 申請日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN104677307B | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發明(設計)人: | 張柏毅;張樂融;藍于瀅;陳俊賢 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | G01B11/25 | 分類號: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006 | 代理人: | 梁揮,常大軍 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 結合 三維 二維 形貌 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種量測方法及裝置,且特別涉及一種結合三維及二維形貌的量測方法及裝置。
背景技術
傳統上,集成電路(integrated circuit,IC)封裝機械視覺檢測包括二維檢測及三維形貌量測,其中IC正面以二維檢測及二維形貌/尺寸量測為主;IC底部則需量測三維IC接腳共面度、接腳二維尺度以及缺陷檢測。
然而,目前的量測技術通常需要通過兩組(或以上)不同的光源對物體進行多次掃描,以分別得到物體的2D及3D量測結果。如此不僅耗費量測時間,還會增加機具成本,更會導致過多的數據傳輸頻寬被占用。
因此,如何提供一種可有效結合三維及二維形貌的量測方法及裝置,乃目前業界所致力的課題之一。
發明內容
本發明的目的在于提供一種結合三維及二維形貌的量測方法及裝置,其藉由一次多線掃描即可建立物體的三維及二維形貌,以達到快速量測的效果。
根據本發明的一實施例,提出一種量測方法,用以量測物體的三維及二維形貌,此物體的表面具有多個物點(object point)。此量測方法包括以下步驟。首先,經由投射裝置,將條紋圖案投射至物體表面。接著,藉由多線光電取像系統,接收并儲存多線影像。之后,物體與相移裝置系統做相對移動,以通過多線光電取像系統擷取多張相位光強影像,相移裝置系統包括投射裝置及多線光電取像系統。然后,依據相位光強影像決定物點的相位值,并通過三角幾何關系將相位值轉換為物點所對應的高度,以產生物體的三維形貌。以及,依據相位光強影像重建無相位變化的物體影像,無相位變化的物體影像是呈現物體的二維形貌尺寸。
根據本發明的一實施例,提出一種量測裝置,用以量測一物體的三維及二維形貌,此物體的表面具有多個物點。此量測裝置包括相移裝置系統以及影像處理單元。相移裝置系統包括投射裝置及多線光電取像系統。投射裝置用以將條紋圖案投射至物體的表面。多線光電取像系統用以接收并儲存多線影像。其中,物體與相移裝置系統做相對移動,以通過多線光電取像系統擷取多張相位光強影像。影像處理單元用以依據相位光強影像決定物點的相位值,并通過三角幾何關系將相位值轉換為物點所對應的高度,以產生物體的三維形貌。影像處理單元并依據相位光強影像重建無相位變化的物體影像,此無相位變化的物體影像系呈現物體的二維形貌尺寸。
以下結合附圖和具體實施例對本發明進行詳細描述,但不作為對本發明的限定。
附圖說明
圖1繪示依據本發明的一實施例的量測裝置的方框圖;
圖2繪示依據本發明的一實施例的量測方法的流程圖;
圖3A至圖3C繪示相移裝置系統的掃描機制示意圖;
圖4繪示投影裝置所投影的條紋光線與物體的高度的幾何關系示意圖;
圖5繪示重建無相位變化的物體影像的示意圖。
其中,附圖標記
10:物體
100:量測裝置
102:相移裝置系統
104:影像處理單元
106:投射裝置
108:多線光電取像系統
110:掃描載體
200:量測方法
202、204、206、208、210:步驟
L1:第一取像線
L2:第二取像線
L3:第三取像線
O1~O5:物點
PL:條紋光線
RP:參考平面
A、A’、B、C、C’、D、O:點
θ0、θn:角度
d0:有效波長為
502、504、506、508:影像
具體實施方式
以下是提出實施例進行詳細說明,實施例僅用以作為范例說明,并不會限縮本發明欲保護的范圍。此外,實施例中的附圖是省略不必要的元件,以清楚顯示本發明的技術特點。
請同時參考圖1及圖2。圖1繪示依據本發明的一實施例的量測裝置100的方框圖。圖2繪示依據本發明的一實施例的量測方法200的流程圖。量測裝置100用以量測物體10的三維及二維形貌,其包括相移裝置系統102以及影像處理單元104。相移裝置系統102包括投射裝置106及多線光電取像系統108。投射裝置106例如是光柵投射器或其他結構光(structured light)源。多線光電取像系統108例如是三線感光耦合式(Charge Coupled Device,CCD)相機或其他多線CCD相機。影像處理單元104例如是集成電路或其他具運算能力的處理器。
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