[發明專利]勻膠機托盤結構

有效

• 申請號: 201310686050.5
• 申請日: 2013-12-16
• 公開（公告）號: CN103691632A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 花國然;王強;朱海峰;徐影;鄧潔
• 申請（專利權）人: 南通大學
• 主分類號: B05C11/08
• 分類號: B05C11/08;B05C11/10
• 代理公司: 北京瑞思知識產權代理事務所(普通合伙) 11341
• 代理人: 李濤

技術領域

本發明涉及勻膠機設備領域，特別是涉及一種勻膠機托盤結構。

背景技術

現有的光刻膠勻膠臺采用真空吸片的方式吸住硅片，但現有的硅片承片臺無法有效的阻擋光刻膠在甩動過程中滲入真空吸片口中，如圖1所示的現有技術，硅片與真空吸片口直接接觸，勻膠機在高速旋轉過程中，光刻膠受旋轉離心力和表面張力的聯合作用，被展開成一層薄膜，其中甩動過程中被甩出至硅片邊緣的膠滴，由于硅片邊緣與承片臺吸片口的壓力差和膠體的表面張力的作用，部分硅片邊緣的膠滴會沿著硅片的背面被吸入真空吸片口中，從而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，從而造成光刻膠薄膜的均勻性變差，同時會對勻膠臺造成損傷。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種勻膠機托盤結構，能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導致的吸力不足或堵塞；同時具有大容量儲膠槽，能夠儲存較多被甩出的光刻膠，并防止流入儲膠槽內的光刻膠再次被甩出，避免了對勻膠臺的損傷。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供一種勻膠機托盤結構，包括：硅片承片臺和真空吸片結構，所述硅片承片臺的頂端有一硅片承載平面，所述硅片承載平面為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面的中心向內開設有一儲膠槽，并且所述儲膠槽的槽壁為向內凹進的圓弧形，在所述儲膠槽的中間還設有一圓臺形的凸臺；所述真空吸片結構包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸臺內，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm。

在本發明一個較佳實施例中，所述儲膠槽呈圓形碗體結構。

在本發明一個較佳實施例中，所述儲膠槽包括槽口和槽底，并且所述槽口面積大于槽底的面積。

在本發明一個較佳實施例中，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心在同一垂直線上。

本發明的有益效果是：本發明勻膠機托盤結構，在硅片承片臺的中間開設儲膠槽，并且儲膠槽呈圓形碗體結構，其槽壁為向內凹進的圓弧形，同時真空吸片口與硅片承載平面間留有一定的距離，使光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲膠槽中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導致的吸力不足或堵塞，同時該儲膠槽具有儲膠量大的特點，且圓弧形槽壁能防止光刻膠在離心力作用下再次被甩出，從而有效避免了對勻膠臺的損傷。

附圖說明

圖1是現有勻膠機托盤結構示意圖；

圖2是本發明勻膠機托盤結構一較佳實施例的主視結構示意圖；

圖3是圖2所示的俯視結構示意圖；

圖4是圖2所示處于工作狀態的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、硅片承片臺，2、真空吸片結構，3、硅片，10、硅片承載平面，11、儲膠槽，12、凸臺，20、上端，21、真空吸片口，110、槽口，111、槽底，112、弧形槽壁，H、真空吸片口與硅片承載平面間的垂直距離。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖2和圖3，本發明實施例包括：

一種勻膠機托盤結構，包括：硅片承片臺1和真空吸片結構2，所述硅片承片臺1的頂端有一硅片承載平面10，所述硅片承載平面10為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面10的中心向內開設有一儲膠槽11，并且所述儲膠槽11的槽壁112為向內凹進的圓弧形，在所述儲膠槽11的中間還設有一圓臺形的凸臺12；所述真空吸片結構2包括：上端20和真空吸片口21，所述上端20位于所述凸臺12內，所述真空吸片口21位于所述上端20的頂部，并且所述真空吸片口21與所述硅片承載平面10間的垂直距離H大于3mm。真空吸片口21與硅片不直接接觸，兩者間留有一定的間隙，從而使光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片背面的膠水在外界大氣壓和儲膠槽內低壓的氣壓差及重力的作用下首先流入到儲膠槽11中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口21內；儲膠槽11的槽壁112為向內凹進的圓弧形，增大了儲膠槽11的容量，同時能夠避免儲存在槽內的光刻膠受離心力作用再次被甩出。