[發(fā)明專利]一種加熱腔室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310685118.8
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN104716071B
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉紅義
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

本發(fā)明提供一種加熱腔室，包括熱源腔室和主腔室，所述熱源腔室與所述主腔室固定連接，以對設(shè)置在所述主腔室內(nèi)的工件進(jìn)行加熱，其中，所述主腔室內(nèi)還設(shè)置有用于支撐所述工件的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)能夠繞自身軸線旋轉(zhuǎn)。在本發(fā)明中，所述主腔室內(nèi)設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)，在加熱過程中，所述支撐機(jī)構(gòu)能夠繞自身軸線旋轉(zhuǎn)，從而對工件進(jìn)行更加均勻的加熱以除去工件上吸附的水蒸氣以及易揮發(fā)雜質(zhì)，進(jìn)而提高產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種加熱腔室。

背景技術(shù)

硬掩膜（Hard Mask）用于金屬硬掩膜材料的制備工藝，是將金屬硬掩膜材料沉積于地介電常數(shù)材料上。銅互連硬掩膜沉積氣相工藝包括去氣加熱過程和沉積過程。

去氣加熱過程是指工件在去氣加熱腔室中加熱至一定溫度，以去除工件上附著的水蒸氣及其它易揮發(fā)雜質(zhì)。如圖1所示的是現(xiàn)有的加熱腔室的主剖示意圖，在加熱腔室1的頂壁上設(shè)置有加熱燈泡2，石英窗5將加熱腔室1與外界大氣隔離，以保證加熱腔室1的真空環(huán)境，工件3放置在支撐臺4上，加熱燈泡2能夠透過石英窗5對工件3進(jìn)行照射，以實現(xiàn)對工件3加熱。

在上述加熱腔室中，工件3上距離加熱燈泡2較近的部分溫度升高較快，距離加熱燈泡2較遠(yuǎn)的部分溫度升高較慢，使得在加熱過程中工件3受熱不均勻，而加熱不均勻可能會導(dǎo)致部分區(qū)域易揮發(fā)雜質(zhì)去除不干凈，影響后續(xù)工藝，嚴(yán)重的局部不均勻可能會造成工件破碎。

因此，如何對工件進(jìn)行均勻加熱成為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種加熱腔室，可以對工件進(jìn)行均勻加熱。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種加熱腔室，包括熱源腔室和主腔室，所述熱源腔室與所述主腔室固定連接，以對設(shè)置在所述主腔室內(nèi)的工件進(jìn)行加熱，其特征在于，所述主腔室內(nèi)還設(shè)置有用于支撐所述工件的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)能夠繞自身軸線旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選地，所述支撐機(jī)構(gòu)包括托盤和傳動件，所述工件能夠設(shè)置在所述托盤上，所述傳動件穿過所述主腔室的底壁，以連接在所述托盤和動力源之間。

優(yōu)選地，所述主腔室的底壁上設(shè)置有沿所述底壁的厚度方向貫穿所述底壁的通孔，所述傳動件穿過所述通孔，所述主腔室在所述通孔處密封。

優(yōu)選地，所述托盤為圓心角度不小于180°的扇環(huán)形結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述托盤包括支撐部和限位部，所述支撐部用于支撐所述工件，所述限位部固定在所述支撐部的邊緣，并向上延伸。

優(yōu)選地，所述支撐機(jī)構(gòu)還包括支撐件，所述支撐件包括直立部和水平板，所述直立部的一端與所述支撐部固定連接，所述直立部的另一端與所述水平板固定連接，所述傳動件設(shè)置在所述水平板的下端面上。

優(yōu)選地，所述主腔室內(nèi)還設(shè)置有位置檢測機(jī)構(gòu)，所述位置檢測機(jī)構(gòu)用于檢測所述支撐機(jī)構(gòu)是否回到旋轉(zhuǎn)的起點(diǎn)位置。

優(yōu)選地，所述位置檢測機(jī)構(gòu)包括傳感器和傳感器反射板，所述傳感器反射板用于接收并反射所述傳感器發(fā)出的光束，所述傳感器和傳感器反射板中的一者固定在所述主腔室的側(cè)壁上，所述光電傳感器和傳感器擋片中的另一者能夠隨所述支撐機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選地，所述熱源腔室內(nèi)設(shè)置有加熱燈。

優(yōu)選地，所述熱源腔室的側(cè)壁上設(shè)置有加熱燈基座，所述加熱燈設(shè)置于所述加熱燈基座上，所述加熱燈基座用于向所述加熱燈供電。

優(yōu)選地，所述熱源腔室外設(shè)置有外罩，所述外罩用于將所述加熱燈基座與外部環(huán)境電氣隔離。。

優(yōu)選地，所述熱源腔室中設(shè)置有反射屏，所述反射屏與所述加熱燈設(shè)置在所述熱源腔室的同一側(cè)內(nèi)壁上。

優(yōu)選地，所述加熱腔室還包括透光的蓋板，所述蓋板用于將所述主腔室和所述熱源腔室分隔。