[發(fā)明專利]三維多層阻變存儲(chǔ)器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310684491.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104716259A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇波;劉凱;張可鋼;陳華倫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L45/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L45/00 |
| 代理公司: | 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁紀(jì)鐵 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維 多層 存儲(chǔ)器 | ||
1.一種三維多層阻變存儲(chǔ)器,其特征在于,包括:1個(gè)制作在硅片上的選通管和至少2個(gè)堆疊在2層金屬層之間的存儲(chǔ)電阻;
每個(gè)存儲(chǔ)電阻一端通過(guò)所述2層金屬層中的底金屬層連接所述選通管漏端,另一端連接所述2層金屬層中的頂金屬層分別作為該阻變存儲(chǔ)器的位線;
所述選通管其柵端作為該阻變存儲(chǔ)器的字線,其源端作為該阻變存儲(chǔ)器的源線。
2.如權(quán)利要求1所述的三維多層阻變存儲(chǔ)器,其特征在于:所述存儲(chǔ)電阻個(gè)數(shù)為2~100個(gè)。
3.如權(quán)利要求1所述的三維多層阻變存儲(chǔ)器,其特征在于:所述金屬層的層數(shù)為2~10層。
4.如權(quán)利要求1所述的三維多層阻變存儲(chǔ)器,其特征在于:所述被堆疊在不同金屬層的存儲(chǔ)電阻在豎直方向上位置完全重合。
5.如權(quán)利要求1所述的三維多層阻變存儲(chǔ)器,其特征在于:所述金屬層是鋁Al、鋁銅Alcu或銅Cu,所述存儲(chǔ)電阻的阻變存儲(chǔ)介質(zhì)是鎢氧化物WOx或二氧化鉿HfO2。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司;,未經(jīng)上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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