[發明專利]表面處理用轉筒在審
| 申請號: | 201310684244.1 | 申請日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN104711531A | 公開(公告)日: | 2015-06-17 |
| 發明(設計)人: | 王進東;張紀功;王湛;饒曉雷;胡伯平 | 申請(專利權)人: | 北京中科三環高技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京航忱知識產權代理事務所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陳立航;郭麗 |
| 地址: | 100190 北京市海淀區中*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 處理 用轉筒 | ||
1.一種表面處理用轉筒,用于在進行表面處理時放置待處理的基體,由金屬網形成封閉空間,在所述轉筒的內表面具有多個限制基體移動的阻擋件,相鄰阻擋件與所述轉筒的內表面形成向內開放的空間,所述空間用于放置待處理的基體。
2.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述阻擋件是從所述轉筒的內表面向內凸的凸部。
3.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述阻擋件的高度為待處理基體的高度的50%以上。
4.根據權利要求3所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述阻擋件的高度為待處理基體的高度的兩倍以上
5.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述轉筒呈圓筒狀。
6.根據權利要求5所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述阻擋件是從所述表面處理用轉筒的內表面沿徑向向內凸的凸部。
7.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述表面處理包括干法表面處理和濕法表面處理。
8.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述表面處理是真空氣相沉積處理。
9.根據權利要求1所述的表面處理用轉筒,其特征在于,所述基體是釹鐵硼永磁體。
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