[發(fā)明專利]一種憎污面釉及用其制作陶瓷產(chǎn)品的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310684030.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103771904A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林孝發(fā);林孝山;劉中起;高建立 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 九牧廚衛(wèi)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C04B41/86 | 分類號(hào): | C04B41/86;C04B41/89 |
| 代理公司: | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204 | 代理人: | 張松亭 |
| 地址: | 362300 福建*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 憎污面釉 制作 陶瓷產(chǎn)品 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于陶瓷產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種憎污面釉及用其制作陶瓷產(chǎn)品的方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有衛(wèi)生潔具的釉料主要使用含有硅酸鋯等乳濁劑及色劑,因此這種釉的玻璃相中含有乳濁相和結(jié)晶相的粒子,在電子顯微鏡下,這種這釉面是凹凸不平的;尤其是這種釉的高溫黏度大,即高溫流動(dòng)性差,造成釉面缺陷多顯得粗糙,使得這種衛(wèi)生沽具表面容易吸附微小顆粒,便于細(xì)菌藏匿,致使防污能力差。
為了解決以上問(wèn)題,陶瓷工作者做了許多工作:一是在已燒成的制品上,通過(guò)后期熱處理,在釉面上形成一層有機(jī)保護(hù)膜,但此種方法不僅增加工藝難度和成本,而且所施加的有機(jī)保護(hù)膜穩(wěn)定性較差且容易剝落;二是降低乳濁釉高溫黏性,提高釉的高溫流動(dòng)性。使釉面?;潭雀?,提高釉面平整度。但此方法存在乳濁釉燒成范圍窄,在窯爐溫度波動(dòng)時(shí)容易造成大批量燒成不良。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)缺陷,提供一種憎污面釉。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種用上述憎污面釉制作陶瓷產(chǎn)品的方法。本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種憎污面釉,包括如下重量份的組分:
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,包括如下重量百分比的組分:
進(jìn)一步優(yōu)選的,包括如下重量百分比的組分:
進(jìn)一步優(yōu)選的,包括如下重量百分比的原料組分:
進(jìn)一步優(yōu)選的,上述高硼熔塊中包括如下重量百分比的組分:
該高硼熔塊的制作方法如下:將石英、長(zhǎng)石和石灰石烘干后再配入硼砂、氧化鋅和純堿,充分混合后在池窯中熔化,熔化溫度在1240~1280℃,經(jīng)水淬后烘干,粉碎待用。
本發(fā)明的另一技術(shù)方案如下:
一種用上述憎污面釉的制作陶瓷產(chǎn)品的方法,包括如下步驟:
(1)稱取各組分均勻混合并球磨,得面釉漿料;
(2)在預(yù)制好的陶瓷坯體的表面涂上經(jīng)球磨的底釉漿料,晾干后,再涂上上述面釉漿料;
(3)將上述涂覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體干燥后,經(jīng)1150-1230℃一次燒成,即得成品。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,所述步驟(1)具體為:稱取各組分均勻混合并球磨至過(guò)325目篩的篩余為0.05-0.1%,得面釉漿料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,所述步驟(2)具體為:在預(yù)制好的陶瓷坯體的表面涂上經(jīng)球磨至過(guò)325目篩的篩余為0.3-0.5%的厚度為0.4-0.9mm的底釉漿料,晾干后,再涂上上述面釉漿料,厚度為0.15-0.25mm。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,所述步驟(3)具體為:將上述涂覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體干燥至水分小于1.0%后,經(jīng)1150-1230℃一次燒成,即得成品。
本發(fā)明的有益效果是:
1、本發(fā)明的憎污面釉不含鉛,釉面?;潭雀?,表面光滑,平整度和致密度好,不易吸附微小顆粒、藏污垢及細(xì)菌,抗污能力強(qiáng),清洗方便;
2、用本發(fā)明的憎污面釉制作陶瓷產(chǎn)品的工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,成品率高,降低了生產(chǎn)能耗和成本。
具體實(shí)施方式
以下通過(guò)具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明和描述。
下述實(shí)施例中的高硼熔塊中包括如下重量百分比的組分:
該高硼熔塊的制作方法如下:將石英、長(zhǎng)石和石灰石烘干后再配入硼砂、氧化鋅和純堿,充分混合后在池窯中熔化,熔化溫度在1240~1280℃,經(jīng)水淬后烘干,粉碎待用。
實(shí)施例1
按如下重量百分比稱取憎污面釉的各原料組分:石英6.4%、長(zhǎng)石9.2%、氧化鋁2.1%、方解石1.9%、白云石3.4%、氧化鋅2.0%和高硼熔塊75%,配方號(hào)001,經(jīng)球磨至過(guò)325目篩的篩余為0.05-0.1%,得面釉漿料。
實(shí)施例2
按如下重量百分比稱取憎污面釉的各原料組分:石英6.2%、長(zhǎng)石8.0%、方解石1.6%、白云石2.4%、氧化鋅1.8%和高硼熔塊80%,配方號(hào)002,經(jīng)球磨至過(guò)325目篩的篩余為0.05-0.1%,得面釉漿料。
實(shí)施例3
按如下重量百分比稱取憎污面釉的各原料組分:石英5.2%、長(zhǎng)石6.8%、方解石1.1%、白云石0.9%、氧化鋅1.0%和高硼熔塊85%,配方號(hào)003,經(jīng)球磨至過(guò)325目篩的篩余為0.05-0.1%,得面釉漿料。
實(shí)施例4
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