[發(fā)明專利]電鍍槽

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310683838.0
• 申請(qǐng)日: 2013-12-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103789806A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡志剛;李德林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳首創(chuàng)光伏有限公司
• 主分類號(hào): C25D7/06
• 分類號(hào): C25D7/06;C25D17/02;H01L31/18
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種電鍍槽，用于將銅或鎵或銦或硒元素沉積于襯底的一表面，其特征在于，包括

電鍍子槽，具有用于盛裝電鍍液的容納腔；

陽(yáng)極，用于沉積CIGS吸收層呈板狀設(shè)置并掛設(shè)于所述電鍍子槽的側(cè)壁，

浸沒(méi)于所述電鍍液中；

傳送裝置，設(shè)置于所述電鍍子槽的中間處，用于攜帶所述襯底同步移動(dòng)，

所述傳送裝置的傳動(dòng)路徑呈由多線段首尾相接而成的封閉狀；

所述陽(yáng)極分別與所述傳送裝置上沉浸于電鍍液中對(duì)稱設(shè)置的側(cè)面平行相

對(duì)設(shè)置，所述襯底貼附于所述傳送裝置上沉浸于電鍍液內(nèi)的側(cè)面且與所

述陽(yáng)極平行相對(duì)設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述傳送裝置包括一固定架、安裝于所述固定架上部并抵頂所述襯底的至少一組主輥輪和安裝于所述固定架下部并與所述主輥輪配合轉(zhuǎn)動(dòng)的至少一組從輥輪，以及傳輸帶,所述傳送帶貼設(shè)于所述主輥輪和所述從輥輪的外周面上并攜帶所述襯底一同運(yùn)動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述傳送裝置上的傳輸帶的傳動(dòng)路徑成矩形，所述陽(yáng)極與所述傳送裝置上相對(duì)設(shè)置并沉浸于所述電鍍液中的兩側(cè)面相對(duì)平行間隔設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1‐3中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述主輥輪和所述從輥輪的外周面與所述固定架的外側(cè)壁相切。

5.根據(jù)權(quán)利要求1‐3中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述主輥輪和所述從輥輪的外周面凸出于所述固定架的外側(cè)壁。

6.根據(jù)權(quán)利要求1‐3中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述傳送裝置上還設(shè)有用于調(diào)節(jié)所述傳輸帶張緊度的調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置與所述主輥輪和所述從輥輪可調(diào)節(jié)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述傳輸帶上還設(shè)有可吸附所述襯底使其與所述傳輸帶貼合的吸附部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1‐3中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述子槽內(nèi)設(shè)置有至少一根鍍液噴管，各所述鍍液噴管上設(shè)置有均勻分布的噴孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述噴孔為錐形孔，所述噴孔的內(nèi)壁沿所述鍍液噴管的管內(nèi)向管外方向逐漸擴(kuò)大。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種電鍍槽，其特征在于：同一鍍液噴管上設(shè)置的噴孔間的距離與所述噴孔的直徑比在20:1至5:1之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種電鍍槽，其特征在于：同一所述鍍液噴管上設(shè)置有兩排噴孔，所述兩排噴孔的噴射方向呈夾角設(shè)置。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述噴孔的噴射方向朝向所述電鍍子槽的底壁。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述鍍液噴管至所述子槽底部的距離與所述電鍍子槽的電鍍液的深度比在1：7至1:20之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求1‐3、9‐13中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述電鍍子槽內(nèi)設(shè)置有用于平緩電鍍液流速的均流網(wǎng)，所述均流網(wǎng)位于所述傳送裝置和所述鍍液噴管之間。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述均流網(wǎng)為平板，所述平板上設(shè)置有均勻分布的網(wǎng)孔。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述平板的厚度與所述電鍍子槽內(nèi)的電鍍液的深度比在1：50至1:300之間。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述網(wǎng)孔為錐孔，所述網(wǎng)孔的內(nèi)壁的直徑沿豎直向上方向逐漸增大。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述均流網(wǎng)至所述鍍液噴管的距離與所述鍍液噴管至所述電鍍子槽底壁的距離比在2:1至于10:1之間。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述均流網(wǎng)的網(wǎng)目在5‐50之間。

20.根據(jù)權(quán)利要求1‐3、9‐13、15‐19中任一項(xiàng)所述的一種電鍍槽，其特征在于：所述電鍍子槽的側(cè)壁上設(shè)有溢流裝置，所述溢流裝置通過(guò)鍍液回流管與所述電鍍子槽連通。