[發明專利]原子層沉積裝置在審
| 申請號: | 201310683377.7 | 申請日: | 2013-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN103866293A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 全鎣卓;崔鶴永 | 申請(專利權)人: | 麗佳達普株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陳英俊 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 原子 沉積 裝置 | ||
1.一種原子層沉積裝置,其包括:
腔室,在內部形成封閉的反應空間;
第一氣體吸排單元,對被供應至所述腔室內部的基板,供給或排出第一氣體;以及
第二氣體吸排單元,對所述基板供給第二氣體或排出第二氣體;
所述基板沿著與所述第一氣體吸排單元或者所述第二氣體吸排單元中的至少一個氣體吸排單元的長度方向交叉的方向進行相對移動。
2.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置,其特征在于,還包括:
第一供氣部,連接在所述第一氣體吸排單元,供給第一氣體;
第二供氣部,連接在所述第二氣體吸排單元,供給第二氣體;
抽真空部,連接在所述第一氣體吸排單元和所述第二氣體吸排單元,用于在所述腔室內部形成真空。
3.根據權利要求2所述的原子層沉積裝置,其特征在于,所述第一氣體吸排單元和第二氣體吸排單元包括:
供氣管,在內部形成有供氣流道;
排氣管,在內部形成有與所述供氣流道連通的壓力緩和部;以及
吸氣管,包圍所述排氣管的外周面的至少一部分,以在內部形成吸氣流道。
4.根據權利要求3所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述壓力緩和部的內部體積大于所述供氣流道的內部體積。
5.根據權利要求3所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述供氣管形成有與所述第一供氣部或第二供氣部連接的至少一個供氣口。
6.如權利要求5所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述吸氣管形成有與所述抽真空部連接的至少一個排氣口。
7.如權利要求6所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述排氣口被形成在所述腔室的吸入氣體收集部以封閉方式包圍,
所述吸入氣體收集部與所述抽真空部連接。
8.一種原子層沉積裝置,其包括:
腔室,在內部形成封閉的反應空間;
第一排氣管,對位于所述腔室內部的基板供給第一氣體;以及
第二排氣管,對所述基板供給第二氣體;
所述基板沿著所述第一排氣管、所述第二排氣管或者真空排氣管中的至少一個的長度方向交叉的方向進行相對移動。
9.如權利要求8所述的原子層沉積裝置,還包括:
第一供氣部,連接在所述第一排氣管,供給第一氣體;
第二供氣部,連接在所述第二排氣管,供給第二氣體;以及
抽真空部,連接在形成于所述腔室的真空口,用于在所述腔室內部形成真空或者在所述第一排氣管和所述第二排氣管之間形成真空。
10.如權利要求9所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述真空口以位于所述第一排氣管和所述第二排氣管之間的方式形成在所述腔室。
11.如權利要求10所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述真空口被形成在所述腔室的真空排氣收集部以封閉方式包圍。
12.如權利要求9所述的原子層沉積裝置,其特征在于,所述第一排氣管和所述第二排氣管包括:
供氣管,在內部形成有供氣流道;
排氣管主體,在內部形成有與所述供氣流道連通的壓力緩和部;以及
排氣部,以與所述供氣流道對置的方式形成在所述壓力緩和部。
13.如權利要求12所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述壓力緩和部的內部體積大于所述供氣流道的內部體積。
14.如權利要求12所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述供氣管形成有與所述第一供氣部或所述第二供氣部連接的至少一個供氣口。
15.如權利要求1至14中任一項所述的原子層沉積裝置,其特征在于,還包括;
腔室干式泵,所述腔室干式泵連接在所述腔室,用于在腔室內部形成真空。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





