[發(fā)明專利]取向膜涂覆裝置和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310682834.0 | 申請日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN103645587A | 公開(公告)日: | 2014-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭先鋒;陳力;金相旭;左長云 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;B05C1/08;B05C11/04;B05C11/10 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取向 膜涂覆 裝置 方法 | ||
1.一種取向膜涂覆裝置,包括轉(zhuǎn)印輥、印刷輥、刮刀和點(diǎn)膠機(jī),所述轉(zhuǎn)印輥與印刷輥的軸向平行且圓周面緊鄰,所述刮刀緊鄰所述轉(zhuǎn)印輥的圓周面,其特征在于,還包括:
設(shè)置于所述轉(zhuǎn)印輥下方的盛液槽,所述轉(zhuǎn)印輥的最下端位于所述盛液槽內(nèi),所述點(diǎn)膠機(jī)的噴嘴對準(zhǔn)所述盛液槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜涂覆裝置,其特征在于,還包括:
用于檢測所述盛液槽中液位高度的液位傳感器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜涂覆裝置,其特征在于,
所述點(diǎn)膠機(jī)中設(shè)置有流量控制器,所述流量控制器電連接于所述液位傳感器,所述流量控制器用于當(dāng)所述盛液槽中液位高度大于第一閾值時(shí)控制所述點(diǎn)膠機(jī)的噴吐流量減小,當(dāng)所述盛液槽中液位高度小于第二閾值時(shí)控制所述點(diǎn)膠機(jī)的噴吐流量增大。
4.一種取向膜涂覆方法,其特征在于,包括:
點(diǎn)膠機(jī)向轉(zhuǎn)印輥下方的盛液槽中提供取向液,使所述轉(zhuǎn)印輥的最下端浸潤于所述盛液槽的取向液中;
所述轉(zhuǎn)印輥旋轉(zhuǎn)且所述轉(zhuǎn)印輥圓周面上的取向液被刮刀刮涂均勻;
與所述轉(zhuǎn)印輥軸向平行且圓周面緊鄰的印刷輥旋轉(zhuǎn),使所述轉(zhuǎn)印輥圓周面上的取向液被涂布到所述印刷輥的圓周面上;
所述印刷輥圓周面上的取向液涂布于基板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的取向膜涂覆方法,其特征在于,
當(dāng)所述盛液槽中液位高度大于第一閾值時(shí)控制所述點(diǎn)膠機(jī)的噴吐流量減小,當(dāng)所述盛液槽中液位高度小于第二閾值時(shí)控制所述點(diǎn)膠機(jī)的噴吐流量增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的取向膜涂覆方法,其特征在于,
所述取向液為聚酰亞胺液。
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G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





