[發(fā)明專利]一種定位缺陷亞像素位置的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310682600.6
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN103698912B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發(fā)明（設計）人: 張力舟;尹鎮(zhèn)鎬;孟祥明;張磊;張暢;郭建強
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1362;H01L21/68
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產權代理有限公司11112
• 代理人: 柴亮,張?zhí)焓?/td>

1.一種定位缺陷亞像素位置的方法，其中，基板包括復數(shù)個亞像素，復數(shù)個亞像素劃分為多個像素周期，每個像素周期包括至少兩個亞像素，其特征在于，所述定位缺陷亞像素位置的方法包括如下步驟：

對各像素周期進行對比，確定缺陷亞像素所在的像素周期的位置；

對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與其他亞像素進行對比，確定缺陷亞像素的位置。

2.根據權利要求1所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述每個像素周期中的各亞像素的形狀均相同。

3.根據權利要求2所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與其他亞像素進行對比包括：

對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與該像素周期內的其他亞像素進行對比。

4.根據權利要求1所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述每個像素周期中的各亞像素的形狀均不相同。

5.根據權利要求4所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與其他亞像素進行對比包括：

對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與其他像素周期內的相對位置的亞像素進行對比。

6.根據權利要求2至5中任意一項所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述亞像素的形狀包括亞像素的大小和/或亞像素的線幅。

7.根據權利要求1所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述對各像素周期進行對比是根據像素周期的圖像信息進行對比。

8.根據權利要求1所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述對含有缺陷亞像素的像素周期內的各亞像素與其他亞像素進行對比是根據亞像素的圖像信息進行對比。

9.根據權利要求7或8所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述圖像信息是灰度值。

10.根據權利要求1所述的定位缺陷亞像素位置的方法，其特征在于，所述基板為彩膜基板或陣列基板。

11.一種定位缺陷亞像素位置的裝置，其特征在于，包括：

比較單元，用于對像素周期進行比較，確定缺陷亞像素所在的像素周期的位置，并對含有缺陷亞像素所在的像素周期內的各亞像素與其他亞像素進行對比，確定缺陷亞像素的位置。