[發明專利]一種清潔裝置以及自動清潔系統

有效

• 申請號: 201310681718.7
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN103691703A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 李曉虎;肖磊;鄧世剛;陳一民
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種清潔裝置；其特征在于，包括：

離子清潔系統，所述離子清潔系統包括腔體、設置在所述腔體上的吹氣孔和吸氣孔、設置在所述腔體內部且位于所述吹氣孔處的放電裝置、以及設置在所述腔體外側與所述吹氣孔連接的吹氣管道和與所述吸氣孔連接的吸氣管道；其中，所述放電裝置用于產生等離子體；

傳輸軌道，所述傳輸軌道包括導軌以及設置在所述導軌上的傳動帶；其中，所述傳輸軌道與所述腔體的上、下底面平行設置，且所述傳輸軌道的一部分位于所述腔體內，另一部分延伸到所述腔體外；

承載臺，所述承載臺設置在所述傳動帶上。

2.根據權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置還包括位置傳感器；

所述位置傳感器位于所述腔體內并設置在所述腔體的后側面上，用于感測所述承載臺上的待清潔物品的存在、及所述待清潔物品或清潔后的物品相對所述位置傳感器的距離；

其中，所述腔體的后側面與所述傳輸軌道的延伸方向垂直。

3.根據權利要求2所述的清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置還包括與所述位置傳感器和所述離子清潔系統均連接的第一控制器；

其中，當所述位置傳感器感測到所述承載臺上的待清潔物品的存在并到達預定位置時，所述第一控制器控制所述離子清潔系統對所述待清潔物品進行等離子體清潔。

4.根據權利要求1至3任一項所述的清潔裝置，其特征在于，

所述吹氣孔設置在所述腔體的上底面，或者所述腔體的左、右側面；

所述吸氣孔設置在所述腔體的底部；

其中，所述腔體的左、右側面均與所述傳輸軌道的延伸方向平行。

5.一種自動清潔系統，其特征在于，所述自動清潔系統包括權利要求1至4任一項所述的清潔裝置以及機械手；

其中，所述機械手用于傳送待清潔物品和清潔后的物品。

6.根據權利要求5所述的自動清潔系統，其特征在于，在所述清潔裝置包括位置傳感器的情況下，所述自動清潔系統還包括與所述位置傳感器和所述機械手均連接的第二控制器；

其中，當所述位置傳感器感測到設置在所述清潔裝置的承載臺上的所述清潔后的物品大于預設距離時，所述第二控制器控制所述機械手到達預定位置接收所述清潔后的物品。

7.根據權利要求6所述的自動清潔系統，其特征在于，所述自動清潔系統還包括設置在所述清潔裝置的腔體外側的識別器，且所述識別器與所述第二控制器相連；

其中，所述第二控制器還與所述清潔裝置的傳輸軌道相連；

所述第二控制器控制所述機械手將所述待清潔物品傳送到所述識別器位置處，并控制所述識別器對所述待清潔物品進行識別；當所述識別器識別到所述機械手傳送的待清潔物品的信息后，所述第二控制器控制所述傳輸軌道的傳動帶帶動承載臺到達所述預定位置，并控制所述機械手將所述待清潔物品放置在所述承載臺上。

8.根據權利要求7所述的自動清潔系統，其特征在于，所述識別器包括用于識別條形碼的條碼識別器；

其中，所述待清潔物品的信息唯一對應所述條形碼。