[發明專利]一種齒科修復用光固化復合樹脂及其制備方法

有效

• 申請號: 201310676816.1
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN103655208A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 張青紅;許東煜;王宏志;李耀剛;周涓
• 申請（專利權）人: 東華大學
• 主分類號: A61K6/083
• 分類號: A61K6/083;C08F220/26;C08F222/20;C08K9/04;C08K3/34;C08K3/36
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所 31233
• 代理人: 黃志達

技術領域

本發明屬于齒科修復材料及其制備領域，特別涉及一種齒科修復用光固化復合樹脂及其制備方法。

背景技術

最近幾十年來，由于齒科修復復合樹脂具有優異的美觀性、生物相容性和出色的機械性能而被廣泛用于臨床齲齒修復。然而，由于齒科修復復合樹脂的聚合收縮、收縮引起的應力、轉化率低等原因而導致臨床修復失敗。幸運的是，近些年有著許多可提高復合樹脂力學性能、減小聚合收縮的工作，主要包括：對基質單體進行官能團改性、分子量調節，甚至合成大分子為低粘度單體；改變填料種類、大小及形貌；添加偶聯劑和其他組分等。

除上述性能外，齒科復合樹脂還應具備X射線阻射性能，以便于檢測繼發齲。而傳統的樹脂材料如甲基丙烯酸甲酯型、雙酚A型單體，X射線阻射性很差，與齲壞牙體之間無明顯反差，當發生繼發齲時，X射線片上難以將墊底材料、洞襯材料與繼發齲進行鑒別(AAmirouche,M?Mouzali,D?C?Watts.Journal?of?Applied?Polymer?Science.2007,104,1632)。而增加一些具備X射線阻射的無機填料，如BaO，BaSO₄，TiO₂，ZrO₂，SrO等，可以達到檢測的目的，但是同時又帶來了一些問題，這些X射線阻射的無機物表面難以接枝偶聯劑，與樹脂相容性差，即使引入少量，也會給機械性能帶來一些不利影響(RR?Braga,RY?Ballester,JL?Ferracane.Dental?Materials.2005,21,962)。因此，這些較重的金屬元素氧化物的表面修飾至關重要，是決定復合樹脂性能的關鍵。但是，這些氧化物的修飾表面缺少M-OH基團（M代表金屬），難與偶聯劑相成鍵合(S?Klapdohr,N?Moszner.Monatshefte?Fur?Chemie.2005,136,21)。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種齒科修復用光固化復合樹脂及其制備方法，該方法工藝簡單，反應條件溫和，適合工業化生產；該方法制備的填料顆粒粒徑均一且可控。

本發明的一種齒科修復用光固化復合樹脂，所述光固化復合樹脂包括樹脂基體和填料，其中樹脂基體包括樹脂單體、稀釋劑、光引發劑和助引發劑；填料為改性氧化硅和改性的SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球，其中填料占復合樹脂總質量的65.0%-80.0%。

所述改性氧化硅占復合樹脂總質量的60.5%-70.5%，改性的SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球占復合樹脂總質量的3.0%-30.0%。

所述改性的氧化硅為γ-MPS改性的氧化硅，改性的SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球為γ-MPS改性的SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球。

所述樹脂單體為乙氧基雙酚-A-甲基苯烯酸酯EBPADMA，樹脂單體占樹脂基體質量的60%～80%。

所述稀釋劑為二甲基丙烯酸三乙二醇酯TEGDMA，占樹脂基體質量的20%～30%。

所述光引發劑為樟腦醌CQ，占樹脂基體總質量的0.2%；助引發劑為對二甲氨基苯甲酸乙酯4-EDMAB，占樹脂基體質量的0.8%。

本發明的一種齒科修復用光固化復合樹脂的制備方法，包括：

（1）將氧化硅或SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球、環己烷、γ-MPS和正丙胺按5-15:60～100:1～3:1的質量比加入到容器中，混合攪拌，烘干，得到改性氧化硅或改性SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球；

（2）將樹脂單體、稀釋劑、光引發劑和助引發劑混勻，然后加入改性氧化硅和改性SiO₂/ZrO₂/SiO₂微球，攪拌預混，然后混勻，即得光固化復合樹脂。

所述步驟（1）混合攪拌為30℃條件下混合攪拌30-35min，然后升溫至60℃，再攪拌30-35min。所述步驟（1）中烘干溫度為60-80℃，烘干時間為12-18h。