[發明專利]一種等離子體增強化學氣相沉積的控制系統

有效

• 申請號: 201310676060.0
• 申請日: 2013-12-11
• 公開（公告）號: CN103834934A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 何祝兵;王春柱;蘇奇聰
• 申請（專利權）人: 南方科技大學
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種等離子體增強化學氣相沉積的控制系統，其特征在于，包括用于遠程監控和數據記錄查詢的第一監控設備組、用于數據處理及參數配置的第二監控設備組、以太網交換機、用于控制工藝操作的第一控制設備組和用于執行工藝操作的第二控制設備組；

所述第一監控設備組和所述第二監控設備組分別通過以太網交換機，與所述第一控制設備組連接，所述第一控制設備組與所述第二控制設備組連接；

其中，所述第一控制設備組包括可編程控制器組、分布式輸入輸出端口組和智能設備組；第二控制設備組包括用于樣品傳輸的裝載室和用于工藝操作的反應室。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第一監控設備組包括用于遠程監控及程序修改的第一計算機和用于遠程數據記錄查詢的第二計算機。

3.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第二監控設備組包括用于本地數據處理、程序控制及參數配置的第三計算機，和用于記錄工藝數據及歷史查詢的第四計算機。

4.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括：

所述第一監控設備組通過以太網或無線Wifi方式，與所述第二監控設備組連接。

5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述分布式輸入輸出端口組包括標準輸入輸出端口和具有安全性能的安全輸入輸出端口。

6.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述可編程控制器組包括：

用于所述智能設備組、所述標準輸入輸出端口和所述安全輸入輸出端口的數據采集及輸出信號控制的主站可編程控制器；

用于標準輸入輸出端口和所述智能設備組的數據采集控制的從站可編程控制器；

用于所述安全輸入輸出端口的信號采集與輸出信號控制的安全可編程控制器。

7.如權利要求6所述的系統，其特征在于，還包括：

所述標準輸入輸出端口通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述從站可編程控制器連接；

所述安全輸入輸出端口通過安全開放式現場總線Safetybus_p方式與所述安全可編程控制器連接；

所述安全可編程控制器通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述主站可編程控制器連接。

8.如權利要求7所述的系統，其特征在于，所述智能設備包括溫控儀、工藝電源、第一真空泵、第二真空泵、第一伺服控制器、第二伺服控制器和真空規管。

9.如權利要求8所述的系統，其特征在于，還包括：

用于所述反應室加熱控制的所述溫控儀，通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述從站可編程控制器連接；

用于控制等離子體產生的所述工藝電源通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述從站可編程控制器連接；

用于為所述裝載室提供真空的所述第一真空泵通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述主站可編程控制器連接；

用于為所述反應室提供真空的所述第二真空泵通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述從站可編程控制器連接；

所述第一伺服控制器和所述第二伺服控制器通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述主從站可編程控制器連接，其中，用于控制樣品傳輸的第一伺服控制器安裝于所述裝載室，用于控制樣品升降動作的所述第二伺服控制器安裝于所述反應室；

用于所述反應室壓力控制的所述真空規管通過過程現場總線標準Profibus-DP方式與所述從站可編程控制器連接。

10.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述工藝電源為射頻電源、中頻電源或直流電源。

11.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述第一真空泵和所述第二真空泵為干泵、分子泵和低溫泵中的任一種或者其組合。