[發(fā)明專利]降低電腦屏幕反射率的薄膜材料

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310665857.0
• 申請日: 2013-12-06
• 公開（公告）號: CN104694881A
• 公開（公告）日: 2015-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張磊
• 申請（專利權(quán)）人: 大連奧林匹克電子城咨信商行
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/10;C23C14/20;B32B9/04;B32B27/06
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 21212
• 代理人: 賈漢生

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電腦保護(hù)膜，具體涉及一種降低電腦屏幕反射率的薄膜材料。

背景技術(shù)

電腦與現(xiàn)代人的生活有著密切的關(guān)系，很多人在一天的大部分時(shí)間面對著電腦屏幕。電腦的工作原理會造成在電腦屏幕上積累電荷,造成吸附灰塵,與周圍物體放電等不良后果。同時(shí),電腦產(chǎn)生的電磁輻射光、反射光，在長時(shí)間面對電腦時(shí)，眼睛容易疲勞，發(fā)紅絲，視力下降，甚至嚴(yán)重影響身體健康，如頭暈，頭痛，注意力不集中等。

傳統(tǒng)的降低電腦屏幕反射率的薄膜材料是采用一層ITO膜與其他介質(zhì)匹配的方法，但此方法方制備方法復(fù)雜、制作成本高等缺點(diǎn),

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種價(jià)格低廉、制備工藝簡單的降低電腦屏幕反射率的薄膜材料。

本發(fā)明的技術(shù)方案為如下：

一種降低電腦屏幕反射率的薄膜材料，包括底模，其特征在于，在底模上蒸鍍有蒸發(fā)膜料，所述蒸發(fā)膜料為Cr和SiO₂。

本發(fā)明中，所述在底模上蒸鍍有蒸發(fā)膜料的工藝采用真空蒸鍍法。

本發(fā)明中，所述真空蒸鍍法采用的真空度為6-9×10^-3Pa。

本發(fā)明中，在底模上蒸鍍蒸發(fā)膜料時(shí)，所述Cr的蒸發(fā)速率為0.4nm/s,所述SiO₂的蒸發(fā)速率為0.2nm/s。

本發(fā)明中，所述底模為透明薄膜。進(jìn)一步，所述透明薄膜為PE、PVC或PVDC薄膜。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明采用普通的真空蒸鍍的方法將Cr與SiO₂鍍膜材料蒸鍍在普通的透明薄膜材料中，未用傳統(tǒng)的ITO透明導(dǎo)電膜,降低了生產(chǎn)成本。本發(fā)明的薄膜材料光學(xué)性能優(yōu)良，明顯減少反射光，在可見區(qū)，其反射率降低至0.5%以下。本發(fā)明的薄膜材料可以直接貼在電腦顯示器上，應(yīng)用方便。

具體實(shí)施方式

下述非限制性實(shí)施例可以使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員更全面地理解本發(fā)明，但不以任何方式限制本發(fā)明。實(shí)施例中所述試驗(yàn)方法，如無特殊說明，均為常規(guī)方法；所述試劑和材料，如無特殊說明，均可從商業(yè)途徑獲得，或可以常規(guī)方法制備。

實(shí)施例1

一種降低電腦屏幕反射率的薄膜材料，是采用本領(lǐng)域常用的真空蒸鍍法將Cr和SiO₂組成的蒸發(fā)膜料均勻蒸鍍在PVC透明薄膜上制備而成的。

在上述真空蒸鍍法蒸鍍蒸發(fā)膜料時(shí)，裝置的真空度控制在7.2×10^-3Pa，所述Cr的蒸發(fā)速率為0.4nm/s,所述SiO₂的蒸發(fā)速率為0.2nm/s。

實(shí)施例2

一種降低電腦屏幕反射率的薄膜材料，是采用本領(lǐng)域常用的真空蒸鍍法將Cr和SiO₂組成的蒸發(fā)膜料均勻蒸鍍在PE透明薄膜上制備而成的。

在上述真空蒸鍍法蒸鍍蒸發(fā)膜料時(shí)，裝置的真空度控制在8.2×10^-3Pa，所述Cr的蒸發(fā)速率為0.4nm/s,所述SiO₂的蒸發(fā)速率為0.2nm/s。