[發(fā)明專利]位置檢測(cè)裝置、曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310662906.5
• 申請(qǐng)日: 2006-06-28
• 公開（公告）號(hào): CN103728849B
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 日高康弘;長(zhǎng)山匡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G01B11/00
• 代理公司: 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11019
• 代理人: 壽寧

1.一種位置檢測(cè)裝置，具備從相對(duì)于受檢面傾斜的方向向上述受檢面上投射光束的投射系統(tǒng)、接收由上述受檢面反射的上述光束的受光系統(tǒng)，及基于利用上述受光系統(tǒng)的上述光束的受光結(jié)果，檢測(cè)出關(guān)于與上述受檢面交差的方向的上述受檢面的位置的檢測(cè)部，該位置檢測(cè)裝置的特征是，還包括：

配置在上述投射系統(tǒng)的光路，將上述光束反射的投射側(cè)反射面；

配置在上述投射系統(tǒng)的光路中上述投射側(cè)反射面的射出側(cè)的光路，將在上述投射側(cè)反射面反射的上述光束非偏光化的投射側(cè)偏光消除元件；

受光側(cè)偏光消除元件，其配置于上述受光系統(tǒng)的光路，將由上述受檢面反射的上述光束進(jìn)行非偏光化；以及

受光側(cè)反射面，其配置于上述受光系統(tǒng)的光路中上述受光側(cè)偏光消除元件的射出側(cè)，將通過上述受光側(cè)偏光消除元件的上述光束進(jìn)行反射；

上述投射系統(tǒng)通過上述投射側(cè)偏光消除元件將上述光束投射到上述受檢面，且上述受光系統(tǒng)通過上述受光側(cè)偏光消除元件而接收由上述受檢面反射的上述光束。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述投射側(cè)偏光消除元件包括由具有雙折射性的晶體材料形成的楔形棱鏡。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述投射側(cè)偏光消除元件將由上述投射側(cè)反射面反射的上述光束所包含的P偏光成分的光和S偏光成分的光分別非偏光化。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述投射側(cè)反射面包括將上述光束全反射的投射側(cè)全反射面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，還包括：

配置在上述投射系統(tǒng)，具有上述投射側(cè)反射面的投射側(cè)棱鏡，

上述投射側(cè)反射面是將入射到上述投射側(cè)棱鏡的內(nèi)部的上述光束在上述投射側(cè)棱鏡的內(nèi)部進(jìn)行反射。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述投射側(cè)反射面包括上述投射側(cè)棱鏡具有的一對(duì)投射側(cè)內(nèi)面反射面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述受光側(cè)偏光消除元件包括由具有雙折射性的晶體材料形成的楔形棱鏡。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述受光側(cè)偏光消除元件將由上述受檢面反射的上述光束所包含的P偏光成分的光和S偏光成分的光分別非偏光化。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述受光側(cè)反射面包括將被上述受光側(cè)偏光消除元件非偏光化的上述光束進(jìn)行全反射的受光側(cè)全反射面。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，還包括

配置在上述受光系統(tǒng)，具有上述受光側(cè)反射面的受光側(cè)棱鏡，

上述受光側(cè)反射面是將入射到上述受光側(cè)棱鏡的內(nèi)部的上述光束在上述受光側(cè)棱鏡的內(nèi)部進(jìn)行反射。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述受光側(cè)反射面包括上述受光側(cè)棱鏡具有的一對(duì)受光側(cè)內(nèi)面反射面。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述投射系統(tǒng)將規(guī)定圖案的第一像形成在上述受檢面上；

上述受光系統(tǒng)形成上述規(guī)定圖案的第二像；

上述檢測(cè)部檢測(cè)出與上述受檢面的移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的上述第二像的橫向錯(cuò)移量，并基于上述橫向錯(cuò)移量檢測(cè)上述受檢面的位置。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的位置檢測(cè)裝置，其特征是，

上述規(guī)定圖案包括具有一定間距的圖案，

上述檢測(cè)部對(duì)關(guān)于上述一定間距的方向的上述橫向錯(cuò)移量進(jìn)行檢測(cè)。