[發明專利]減少反射光的電腦保護膜

在審

• 申請號: 201310659557.1
• 申請日: 2013-12-06
• 公開（公告）號: CN104691037A
• 公開（公告）日: 2015-06-10
• 發明（設計）人: 張磊
• 申請（專利權）人: 大連奧林匹克電子城咨信商行
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/082;B32B15/085;B32B15/20;C23C14/24;C23C14/10;C23C14/20
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 賈漢生

技術領域

本發明涉及一種電腦保護膜，具體涉及一種減少反射光的電腦保護膜。

背景技術

從事于電腦相關或使用電腦處理業務的工作人員，在一天的大部分時間面對著電腦屏幕。電腦的工作原理會造成在電腦屏幕上積累電荷,造成吸附灰塵,與周圍物體放電等不良后果。同時,電腦產生的電磁輻射光、反射光，在長時間面對電腦時，眼睛容易疲勞，發紅絲，視力下降，甚至嚴重影響身體健康，如頭暈，頭痛，注意力不集中等。

傳統的減反膜是采用一層ITO膜與其他介質匹配的方法，但此方法方制備方法復雜、制作成本高等缺點,

發明內容

本發明提供一種價格低廉、制備工藝簡單的減少反射光的電腦保護膜。

本發明的技術方案為如下：

一種減少反射光的電腦保護膜，該保護膜是采用真空蒸鍍法將蒸發膜料蒸鍍在透明薄膜基材上制備得到的，其特征在于，所述蒸發膜料為Cu和SiO₂。

本發明中，所述Cu的蒸發速率為0.1-0.4nm/s,所述SiO2的蒸發速率為0.1-0.2nm/s。

本發明中，真空鍍膜時的真空度為5-8×10^-3Pa。

本發明中，所述透明薄膜基材為PE、PVC薄膜。

本發明的有益效果：本發明采用普通的真空蒸鍍的方法將金屬與SiO₂鍍膜材料蒸鍍在普通的透明薄膜材料中，未用傳統的ITO透明導電膜,降低了生產成本。本發明的電腦保護膜可以直接貼在電腦顯示器上，應用方便，本發明的電腦保護膜其光學性能優良，明顯減少反射光，在可見區，其反射率降低至0.5%以下。

具體實施方式

下述非限制性實施例可以使本領域的普通技術人員更全面地理解本發明，但不以任何方式限制本發明。實施例中所述試驗方法，如無特殊說明，均為常規方法；所述試劑和材料，如無特殊說明，均可從商業途徑獲得，或可以常規方法制備。

實施例1

一種減少反射光的電腦保護膜，該保護膜是采用真空蒸鍍法將蒸發膜料蒸鍍在透明薄膜基材上制備得到的。

上述真空蒸鍍法采用本領域常用的真空蒸鍍法。

所述蒸發膜料為Cu和SiO₂，其中所述Cu的蒸發速率為0.2nm/s,所述SiO2的蒸發速率為0.2nm/s，真空蒸鍍時裝置的真空度控制在5.2×10^-3Pa。

所述透明薄膜基材為PE薄膜。

實施例2

一種減少反射光的電腦保護膜，該保護膜是采用真空蒸鍍法將蒸發膜料蒸鍍在透明薄膜基材上制備得到的。

上述真空蒸鍍法采用本領域常用的真空蒸鍍法。

所述Cu的蒸發速率為0.4nm/s,所述SiO2的蒸發速率為0.2nm/s，真空蒸鍍時裝置的真空度控制在7.8×10^-3Pa。

所述透明薄膜基材為PVC薄膜。