[發明專利]太赫茲器件及其制備方法有效
| 申請號: | 201310655083.3 | 申請日: | 2013-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN103663360A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發明(設計)人: | 蔡斌;李云舟;朱亦鳴 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00 |
| 代理公司: | 上海德昭知識產權代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 赫茲 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種太赫茲器件,其特征在于,包括:
太赫茲元件,具有入射面和出射面;以及
微孔薄膜,至少覆蓋在所述入射面上,
所述微孔薄膜具有多個微孔單元,所述微孔單元具有向著所述太赫茲元件方向自大到小漸變的形狀。
2.根據權利要求1所述的太赫茲器件,其特征在于:
其中,所述微孔薄膜由太赫茲域高透明材料制成,厚度為1微米~1毫米,所述太赫茲域高透明材料為高分子材料或高分子基復合材料。
3.根據權利要求2所述的太赫茲器件,其特征在于:
其中,所述高分子材料為聚甲基丙烯酸甲酯、聚4-甲基戊烯、聚乙烯、聚丙烯、環烯烴共聚物或聚苯乙烯中的任意一種;
所述高分子基復合材料為復合有硅、二氧化硅或三氧化二鋁納米顆粒中的任意一種或至少兩種的高分子材料。
4.根據權利要求1所述的太赫茲器件,其特征在于:
其中,所述微孔單元的形狀為倒圓錐形、倒棱錐形、倒圓臺形或倒梯臺形中的任意一種。
5.根據權利要求1所述的太赫茲器件,其特征在于:
其中,所述微孔薄膜還覆蓋在所述出射面上。
6.一種制備如權利要求1~4中任意一項所述的太赫茲器件的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:將所述太赫茲域高透明材料溶于一定溶劑中,配成溶液;
步驟二:將所述溶液旋凃在所述入射面上,烘干,得到所述入射面上覆蓋有所述太赫茲域高透明材料的薄膜的第一待壓器件;
步驟三:將所述第一待壓器件和模具共同加熱到高于所述太赫茲域高透明材料的玻璃化轉變溫度的溫度,用所述模具穿透所述薄膜壓在所述入射面上,冷卻,脫模,得到所述太赫茲器件。
7.一種制備如權利要求5所述的太赫茲器件的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:將所述太赫茲域高透明材料溶于一定溶劑中,配成溶液;
步驟二:將所述溶液旋凃在所述入射面上,烘干,再將所述溶液旋凃在所述出射面上,烘干,得到所述入射面和所述出射面均覆蓋有所述太赫茲域高透明材料的薄膜的第二待壓器件;
步驟三:將所述第二待壓器件和模具共同加熱至高于所述太赫茲域高透明材料的玻璃化轉變溫度的溫度,用所述模具分別穿透所述薄膜壓在所述入射面和所述出射面上,冷卻,脫模,得到所述太赫茲器件。
8.根據權利要求6或7所述的制備方法,其特征在于:
其中,所述模具具有多個凸起單元,所述凸起單元具有與所述微孔單元相匹配的正圓錐形、正棱錐形、正圓臺形和正梯臺形中的任意一種形狀。
9.根據權利要求6或7所述的制備方法,其特征在于:
其中,所述模具為金屬模具。
10.根據權利要求6或7所述的制備方法,其特征在于:
其中,所述溶劑為甲苯、二甲苯、三甲苯、氯苯、苯甲醚、丙酮、四氫呋喃和氯仿中的任意一種或至少兩種的混合物。
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