[發明專利]一種廢電解液的處理方法及處理裝置在審
| 申請號: | 201310653956.7 | 申請日: | 2013-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN104694978A | 公開(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發明(設計)人: | 王亞民;梁源;蘇思濤;楊家庭;左東平;王燦如;范傳彬;田仁光;韓英賀 | 申請(專利權)人: | 陽谷祥光銅業有限公司 |
| 主分類號: | C25C7/06 | 分類號: | C25C7/06;C25C1/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵 |
| 地址: | 252327 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電解液 處理 方法 裝置 | ||
1.一種廢電解液的處理方法,包括以下步驟:
a)對廢電解液進行處理,得到一次脫銅終液,所述一次脫銅溶液中銅離子濃度為35g/L~45g/L;
b)以不溶性陽極作為陽極,以不銹鋼陰極作為陰極,采用連續電積法對所述一次脫銅終液進行處理,得到A級銅和二次脫銅終液;
c)以不溶性陽極作為陽極,以電解殘極作為陰極,采用連續電積法對所述二次脫銅終液進行處理,得到電積銅、黑銅板、黑銅粉和黑銅泥。
2.根據權利要求1所述的處理方法,其特征在于,所述步驟b)中,所述一次脫銅終液的流量為20L/min~28L/min;所述電解沉積的溫度為50℃~70℃;所述電解沉積的電流密度為180A/m2~200A/m2;所述述二次脫銅終液中銅離子的濃度為15g/L~25g/L。
3.根據權利要求2所述的處理方法,其特征在于,所述步驟b)中,所述一次脫銅終液依次經過3或4個串聯的電解槽進行電解沉積,所述各電解槽均以不溶性陽極作為陽極,以不銹鋼陰極作為陰極。
4.根據權利要求1所述的處理方法,其特征在于,在所述步驟b)之前,還包括向所述一次脫銅終液中加入添加劑,所述添加劑為骨膠和硫脲。
5.根據權利要求4所述的處理方法,其特征在于,所述骨膠的用量為20g/t~30g/t,所述硫脲的用量為40g/t~50g/t。
6.根據權利要求1所述的處理方法,其特征在于,所述步驟b)中,所述一次脫銅終液的進液方式為下進上出。
7.根據權利要求1所述的處理方法,其特征在于,所述步驟a)具體為:
采用電解沉積法對廢電解液進行處理,得到A級銅和一次脫銅終液;
或者,
所述步驟a)具體為:
將廢電解液依次進行真空蒸發、冷凍結晶和過濾處理,得到硫酸銅和一次脫銅終液。
8.一種廢電解液處理裝置,包括:
第一脫銅裝置;
進液口與所述第一脫銅裝置的出液口相連的第二電解槽,所述第二電解槽以不溶性陽極作為陽極,以不銹鋼陰極作為陰極;
進液口與所述第二電解槽的出液口相連的第三電解槽,所述第三電解槽以不溶性陽極作為陽極,以電解殘極作為陰極。
9.根據權利要求8所述的處理裝置,其特征在于,所述第二電解槽包括:
進液口與所述第一脫銅裝置的出液口相連的第二A電解槽;
進液口與所述第二A電解槽的出液口相連的第二B電解槽;
進液口與所述第二B電解槽的出液口相連的第二C電解槽。
10.根據權利要求9所述的處理裝置,其特征在于,還包括與第二C電解槽的出液口相連通的分流支管。
11.根據權利要求9或10任意一項所述的處理裝置,其特征在于,所述第二A電解槽的進液口低于出液口;第二B電解槽的進液口低于出液口;第二C電解槽的進液口低于出液口。
12.根據權利要求8所述的處理裝置,其特征在于,所述第二電解槽包括:
進液口與所述第一脫銅裝置的出液口相連的第二A電解槽;
進液口與所述第二A電解槽的出液口相連的第二B電解槽;
進液口與所述第二B電解槽的出液口相連的第二C電解槽;
進液口與所述第二C電解槽的出液口相連的第二D電解槽。
13.根據權利要求12所述的處理裝置,其特征在于,還包括與第二D電解槽的出液口相連通的分流支管。
14.根據權利要求12或13任意一項所述的處理裝置,其特征在于,所述第二A電解槽的進液口低于出液口;第二B電解槽的進液口低于出液口;第二C電解槽的進液口低于出液口;第二D電解槽的進液口低于出液口。
15.根據權利要求8所述的處理裝置,其特征在于,所述第一脫銅裝置包括第一電解槽,所述第一電解槽以不溶性陽極作為陽極,以不銹鋼陰極作為陰極;
或者,
所述第一脫銅裝置包括:
真空蒸發裝置;
與所述真空蒸發裝置的出料口相連的冷凍結晶裝置;和
與所述冷凍結晶裝置的出料口相連的過濾裝置。
16.根據權利要求8所述的處理裝置,其特征在于,還包括添加劑儲槽,所述添加劑儲槽的出液口與所述第二電解槽的進液口相連通。
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