[發(fā)明專利]校正治具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310652050.3
• 申請(qǐng)日: 2013-12-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103700599A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王召波;樸祥秀;張勛澤;朱昊;張卓然;劉飛;張文俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種校正治具。

背景技術(shù)

在薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD）生產(chǎn)制造過(guò)程中，需要使用磁控濺射設(shè)備（PVD）對(duì)玻璃基板進(jìn)行鍍膜。在6代及以上立式磁控濺射設(shè)備中，該設(shè)備包括一靶材支撐部件，該靶材支撐部件用于支撐靶材和固定防著板（Ground?Shield，簡(jiǎn)稱GS），其中防著板用于防止靶材原子濺射到被鍍物以外的其它位置。

圖1為靶材支撐部件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中靶材支撐基座與中間連桿裝配后的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1和圖2所示：該靶材支撐部件包括：靶材支撐基座1和中間連桿2，靶材支撐基座2上設(shè)置有凹槽101，中間連桿2可緊密固定于置于凹槽101內(nèi)，進(jìn)一步地，在凹槽101內(nèi)設(shè)置有第一螺孔102，中間連桿上對(duì)應(yīng)第一螺孔102處射有第二螺孔，通過(guò)不銹鋼螺釘穿過(guò)第一螺孔102和第二螺孔可使得靶材支撐基座1與中間連桿2裝配。

其中，防著板使用的材料為304不銹鋼（0Cr18Ni9），該不銹鋼的化學(xué)成分為，碳（C）：≤0.07%、硅（Si）：≤1.0%、錳（Mn）：≤2.0%、鉻（Cr）：17.0%～19.0%、鎳（Ni）：8.0%～11.0%、硫（S）：≤0.03%、磷（P）：≤0.035%；物理特性：拉強(qiáng)度≤620Mpa，屈服強(qiáng)度≤310Mpa，伸長(zhǎng)率≤30%，面積縮減≤40%，密度為7.93g/cm3，304不銹鋼耐高溫方面比較好，能達(dá)到750～800度，有較高的塑性、韌性和機(jī)械強(qiáng)度，且耐腐蝕。

在利用磁控濺射設(shè)備在進(jìn)行鍍膜過(guò)程中，加工腔室內(nèi)為高溫、真空環(huán)境，在持續(xù)高溫的作用下，靶材支撐基座容易產(chǎn)生延展變形，進(jìn)而帶動(dòng)凹槽一起發(fā)生形變。具體地，靶材支撐部件的兩個(gè)端部分別通過(guò)定位螺釘固定在加工腔室中，靶材支撐部件的中間部位用來(lái)支撐靶材和承接防著板，由于靶材支撐部件的中間部位在加工腔室中沒(méi)有支撐點(diǎn)，因此該部件在固定受力不均的情況下容易發(fā)生整體形變。

當(dāng)靶材支撐部件發(fā)生形變后，加工腔室內(nèi)的部分等離子體可繞過(guò)防著板濺射到中間連桿和凹槽兩側(cè)，對(duì)靶材支撐部件局部產(chǎn)生應(yīng)力，且隨著中間連桿和凹槽兩側(cè)的膜厚的增加，受濺射部位的局部應(yīng)力隨之增加，進(jìn)而使得靶材支撐基座和中間連桿均產(chǎn)生“S”形變。

而靶材支撐基座和中間連桿均產(chǎn)生“S”形變后，會(huì)致使靶材與防著板的間距會(huì)發(fā)生改變，從而使得防著板的局部會(huì)受到等離子體的異常轟擊，經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，防著板上被異常轟擊的位置產(chǎn)生脫落，導(dǎo)致靶材與防著板導(dǎo)通，容易造成加工腔室內(nèi)的異常放電，最終造成產(chǎn)品不良或者電源短路無(wú)法放電，更嚴(yán)重地，則會(huì)燒毀電源、擊穿靶材支撐部件。

為了提高靶材支撐部件使用壽命，穩(wěn)定產(chǎn)品品質(zhì)并降低企業(yè)生產(chǎn)成本，則對(duì)靶材支撐部件需定期進(jìn)行清洗，在清洗過(guò)程中需要將靶材支撐基座和中間連桿分離清洗。在分離后，靶材支撐基座和中間連桿上的局部應(yīng)力會(huì)得到釋放，引起靶材支撐基座和中間連桿發(fā)生形變，進(jìn)而使得靶材支撐基座和中間連桿配合失效。因此，需要對(duì)靶材支撐基座和中間連桿進(jìn)行校正。

傳統(tǒng)矯正方法是使用水平臺(tái)進(jìn)行形變量的測(cè)量，利用專用夾具和液壓平臺(tái)對(duì)其形狀進(jìn)行保持，然后邊測(cè)量邊做出適當(dāng)調(diào)整，最后加熱6～8小時(shí)進(jìn)行去除應(yīng)力，傳統(tǒng)方式只可矯正靶材支撐基座的外形尺寸，但不能對(duì)凹槽形變進(jìn)行矯正，而且傳統(tǒng)的校正方法的矯正時(shí)間持續(xù)較長(zhǎng)，工作量大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種校正治具，該校正治具可對(duì)靶材支撐基座的凹槽、外形尺寸以及中間連桿的外形尺寸進(jìn)行校正，且校正時(shí)間較短、工作量小、精確度高。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種校正治具，該校正治具包括：校正架，所述校正架包括：校正基臺(tái)、支撐架和校正頂針，所述校正基臺(tái)水平放置，所述校正基臺(tái)上設(shè)置有限位槽，所述支撐架設(shè)置于所述校正基臺(tái)上，所述校正頂針豎直穿過(guò)所述支撐架，所述校正頂針位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撐基座或中間連桿，所述校正頂針豎直向下運(yùn)動(dòng)至所述靶材支撐基座的凹槽內(nèi)以對(duì)所述凹槽進(jìn)行校正。

可選地，所述限位槽的一個(gè)側(cè)壁上還設(shè)置有調(diào)節(jié)螺母，所述調(diào)節(jié)螺母配合所述限位槽的另一個(gè)側(cè)壁用于固定所述靶材支撐基座。

可選地，所述支撐架上設(shè)置有通孔，所述通孔的內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)螺紋，所述校正頂針的柱身設(shè)置有與所述內(nèi)螺紋對(duì)應(yīng)的外螺紋，所述校正頂針置于所述通孔內(nèi)。

可選地，所述校正基臺(tái)和所述支撐架一體成型。

可選地，所述校正架的數(shù)量為至少兩個(gè)，至少一個(gè)所述校正架在水平方向上移動(dòng)以對(duì)所述中間連桿的外形尺寸或所述靶材支撐基座的外形尺寸進(jìn)行校正。