[發明專利]一種硅基有機雙面受光太陽電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201310649747.5 | 申請日: | 2013-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN103606567A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發明(設計)人: | 賈河順;姜言森;任現坤;徐振華;馬繼磊;張春艷;方亮 | 申請(專利權)人: | 山東力諾太陽能電力股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/02 | 分類號: | H01L31/02;H01L31/18 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司 37205 | 代理人: | 宋玉霞 |
| 地址: | 250103 山東省濟南*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 有機 雙面 太陽電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,從晶硅襯底到受光面依次包括:受光面緩沖層、受光面活性層、受光面透明導電薄膜層,另外,受光面金屬電極位于受光面透明導電薄膜上;從晶硅襯底到背光面依次為背光面緩沖層、背光面活性層、背光面透明導電薄膜層,另外,背光面金屬電極位于背光面透明導電薄膜上。
2.?根據權利要求1所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,受光面緩沖層、受光面活性層、受光面透明導電薄膜層,以及背光面緩沖層、背光面活性層、背光面透明導電薄膜層的厚度范圍分別為1~5000nm。
3.?根據權利要求1所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,受光面緩沖層及背光面緩沖層為一層以上薄膜疊層結構;為ZnO、SiO2、ITO、PEDOT:PSS薄膜中的一種。
4.?根據權利要求1所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,受光面活性層及背光面活性層為一層以上薄膜疊層結構;為給體-受體聚合物或染料敏化材料薄膜。
5.?根據權利要求4所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,受光面活性層及背光面活性層為P3HT:PCBM給體-受體薄膜疊層結構。
6.?根據權利要求1所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池,其特征在于,受光面透明導電薄膜和背光面透明導電薄膜為一層或多層薄膜的疊層結構,為ITO、IZO、ZnO薄膜中的一種。
7.?如權利要求1-6任一所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)晶硅襯底制絨;
(2)受光面緩沖層制備;
(3)受光面活性層制備;
(4)受光面透明導電薄膜制備;
(5)背光面緩沖層制備;
(6)背光面活性層制備;
(7)背光面透明導電薄膜制備;
(8)背光面金屬電極制備;
(9)受光面電極制備;
(10)低溫燒結。
8.?根據權利要求7所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池的制備方法,其特征在于,受光面金屬電極、受光面透明導電薄膜層,背光面金屬電極、背光面透明導電薄膜層的制備采用印刷、濺射或噴墨的方法。
9.?根據權利要求7所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池的制備方法,其特征在于,受光面緩沖層、受光面活性層、背光面緩沖層、背光面活性層制備采用印刷、濺射、噴墨或旋涂的方法。
10.?根據權利要求7所述的一種硅基有機雙面受光太陽電池的制備方法,其特征在于,低溫燒結的溫度為200-400℃,時間1-10分鐘。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東力諾太陽能電力股份有限公司,未經山東力諾太陽能電力股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310649747.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





