[發明專利]一種噴射清洗裝置

有效

• 申請號: 201310649192.4
• 申請日: 2013-12-04
• 公開（公告）號: CN103611699A
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發明（設計）人: 張建輝;張金剛;馮啟鳳
• 申請（專利權）人: 中昊晨光化工研究院有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 孟憲功

技術領域

本發明涉及噴射清潔領域，尤其涉及一種噴射清洗裝置。

背景技術

現有生產中，為了加快烘干效率和烘干后物料的質量，許多用于烘干粉狀物料的烘箱經常使用孔隙較小的不銹鋼絲網作底板、周邊圍堰采用扁鋼的烘盤。這種形式的烘盤大量運用于精細化工、制藥等行業。由于粉狀物料直徑較小，在很多行業中，粉狀物料還帶有一定的粘度，從而造成粉狀物料囤積在絲網孔隙中，不易清理。目前，很多廠家采用的清理方法是用高壓水槍對烘盤正反面進行手工噴射處理，由于高壓水槍噴射面積較小，沖洗效率不高，而且用水量較大，沖洗過程需要消耗大量的人力和清洗液；由于高壓水槍的噴射壓力較大，沖洗過程水花四濺，影響工作環境。故此需對傳統的該類烘盤的清洗方式進行改進，消除不利因素。

在某些粉狀物料的烘干過程中，烘盤使用量相當大，粉料容易在絲網孔隙中附著，要求在清洗過程中盡可能清洗干凈，提高清洗效率。利用傳統的人工使用高壓水槍沖洗的方法無法達到滿意效果，影響后續產品的烘干質量。

發明內容

（一）要解決的技術問題

本發明要解決的技術問題是：現有的絲網烘盤使用量較大，需要及時清洗，人工使用高壓噴槍進行清洗的方式速度慢，用水量較大，濺出的液體會對工作環境造成影響，而且這種清洗方式無法保證清洗質量。

（二）技術方案

為了解決上述技術問題，本發明提供一種噴射清洗裝置，包括底盤、支腿、和清洗單元，所述支腿固定于底盤下方，所述清洗單元固定于底盤上，所述清洗單元包括罩子、噴射模塊和導軌，所述罩子的底部與底盤的邊緣連接，所述導軌安裝在底盤上，所述導軌的安裝方向與底盤的長度方向相同，所述噴射模塊交錯設置在導軌的兩側；所述導軌上設有引導模塊，用于保持被清洗物豎立；所述噴射模塊的噴射口正對被清洗物的被清洗面；所述罩子上對應導軌兩端的位置分別設有進口和出口。

優選地，所述噴射模塊包括若干實心錐噴嘴。

優選地，所述導軌包括兩條平行設置的定位扁鋼，所述兩條定位扁鋼之間間隔連接有若干軸，所述軸連接在所述定位扁鋼的上部，所述軸上連接有輥筒，所述輥筒通過其兩端的軸承連接在軸上。

優選地，所述引導模塊包括兩排豎直設置的支撐片以及固定在支撐片上的限位桿，兩排所述支撐片的底端分別固定在所述定位扁鋼的外側，所述限位桿固定在兩排所述支撐片的內側，所述限位桿沿定位扁鋼的長度方向設置。

優選地，位于導軌兩側的所述限位桿的端部均向其所在側的噴射模塊方向傾斜，兩個定位扁鋼上對應的限位桿端部組成外八字形結構。

優選地，所述底盤位于導軌下方的部分為一下凹的漏斗狀結構，所述漏斗狀結構的底端連接有出水管。

優選地，所述噴射模塊連接有進水管和水量調節裝置。

優選地，所述罩子為有機玻璃罩。

優選地，所述進口和出口均為長條孔。

（三）有益效果

上述技術方案具有如下優點：通過在導軌兩側分別設置噴射模塊，雙向清洗，清洗效果好；清洗過程都在罩子內進行，無濺水現象，不會影響現場環境；罩子兩端設有進口和出口，多個烘盤可以連續進行清洗，清洗速度快、效率高；清洗液用量容易控制。

附圖說明

圖1是本發明一種噴射清洗裝置的主視圖；

圖2是本發明一種噴射清洗裝置的俯視圖；

圖3是本發明一種噴射清洗裝置的左視圖；

圖4是本發明一種噴射清洗裝置的導軌示意圖；

圖5是本發明一種噴射清洗裝置的導軌俯視圖；

圖6是圖5的B-B剖視圖；

圖7是本發明一種噴射清洗裝置的實心錐噴嘴噴射面示意圖一；

圖8是本發明一種噴射清洗裝置的實心錐噴嘴噴射面示意圖二。

圖中：1、支腿；2、進水管；3、底盤；4、導軌；5、罩子；6、實心錐噴嘴；7、烘盤；8、出水管；9、定位扁鋼；10、限位桿；11、支撐片；12、輥筒；13、軸；14、軸承。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明一種噴射清洗裝置作進一步詳細說明。