[發明專利]制備薄鐵片的工藝方法

在審

• 申請號: 201310647867.1
• 申請日: 2013-12-02
• 公開（公告）號: CN103757678A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 鄭惠娣
• 申請（專利權）人: 鄭惠娣
• 主分類號: C25D5/56
• 分類號: C25D5/56;C25D3/20;C25D7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種制備薄鐵片的工藝方法。

背景技術

目前制備薄鐵片主要是用傳統方法，把鐵軋延至一定厚度后，用紙夾著反復進行錘打→返火→錘打。這種方法因為改善機械性能不得不摻入雜質，故金屬純度不高，加工更薄的鐵片非常困難，成本高，大量工序靠人工操作，勞動生產率較低。

發明內容

本發明的目的在于克服上述的不足，提供一種制備薄鐵片的工藝方法。

本發明為實現上述目的所采用的技術方案是：一種制備薄鐵片的工藝方法，在薄膜基材上預設鋁、鎂、鋅等活躍金屬的分離層；在分離層上進行鐵的電鍍，直到沉積至要求的厚度；把鍍好的薄膜置入鹽酸、硫酸或硝酸溶液酸性溶液中，也可置入氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鈣堿性溶液中充分接觸，溶液滲入分離層，溶解產生氫氣或氧氣擴張分離層，使金屬薄層與基膜完全分離；將薄鐵片撈起，清洗并晾干。

所述的薄膜基材是聚丙烯或聚氯乙烯材料。

本發明提供一種無雜質、含鐵純度高、成本低、勞動生產率高的一種薄鐵片的工藝方法。

具體實施方式

一種制備薄鐵片的工藝方法，在薄膜基材上預設鋁、鎂、鋅等活躍金屬的分離層；在分離層上進行鐵的電鍍，直到沉積至要求的厚度；把鍍好的薄膜置入鹽酸、硫酸或硝酸溶液酸性溶液中，也可置入氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鈣堿性溶液中充分接觸，溶液滲入分離層，溶解產生氫氣或氧氣擴張分離層，使金屬薄層與基膜完全分離；將薄鐵片撈起，清洗并晾干。