[發(fā)明專(zhuān)利]半導(dǎo)體裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310646732.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-05-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103633148B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中村勝光 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三菱電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/861 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/861;H01L29/06 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112 | 代理人: | 何立波,張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,其中包括:
半導(dǎo)體襯底,具有互相對(duì)置的第一主表面及第二主表面,且具有互相相鄰的二極管有源區(qū)域和邊緣端接區(qū)域;
第一導(dǎo)電型的第一區(qū)域,在所述二極管有源區(qū)域中形成在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi);
第二導(dǎo)電型的第二區(qū)域,形成在所述半導(dǎo)體襯底的所述第一主表面,以在所述二極管有源區(qū)域中與所述第一區(qū)域一起構(gòu)成二極管;
第一導(dǎo)電型的第三區(qū)域,在所述邊緣端接區(qū)域中形成在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi);以及
第二導(dǎo)電型的第四區(qū)域,在所述邊緣端接區(qū)域中形成在所述半導(dǎo)體襯底的所述第一主表面,
所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域共有與所述第四區(qū)域構(gòu)成pn結(jié)的第一導(dǎo)電型的漂移區(qū)域,
所述第一區(qū)域具有第一導(dǎo)電型雜質(zhì)的濃度高于所述漂移區(qū)域的第五區(qū)域,而且具有
第二導(dǎo)電型的第一逆導(dǎo)電型區(qū)域,在所述二極管有源區(qū)域的所述第二主表面中以與所述第五區(qū)域相鄰的方式形成,和
第二導(dǎo)電型的第二逆導(dǎo)電型區(qū)域,形成在所述邊緣端接區(qū)域的所述第二主表面,
所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域共有第一導(dǎo)電型的第六區(qū)域,該第一導(dǎo)電型的第六區(qū)域的第一導(dǎo)電型雜質(zhì)的濃度低于所述第五區(qū)域,且高于所述漂移區(qū)域,
所述第六區(qū)域在所述二極管有源區(qū)域中位于所述第五區(qū)域及所述第一逆導(dǎo)電型區(qū)域與所述漂移區(qū)域之間,且在所述邊緣端接區(qū)域中位于所述第二逆導(dǎo)電型區(qū)域與所述漂移區(qū)域之間,
在所述二極管有源區(qū)域,所述第五區(qū)域與所述第一逆導(dǎo)電型區(qū)域在平面圖中以相鄰的方式交互排列,
通過(guò)與所述第五區(qū)域交互排列的所述第一逆導(dǎo)電型區(qū)域的一部分延伸至所述邊緣端接區(qū)域,從而配置所述第二逆導(dǎo)電型區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述第一逆導(dǎo)電型區(qū)域的面積相對(duì)于所述第二主表面中的所述二極管有源區(qū)域的總面積所占的比例為20%以上95%以下。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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