[發明專利]一種基于表面等離激元與介質模式耦合的復合型光纖無效
| 申請號: | 201310646127.6 | 申請日: | 2013-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN103616740A | 公開(公告)日: | 2014-03-05 |
| 發明(設計)人: | 蘇亞林;張磊;郭世澤;朱峻茂;馬軍濤;孟楠;姚新磊;孫武劍;張宇 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍總參謀部第五十四研究所 |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 仇蕾安;付雷杰 |
| 地址: | 100191 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 表面 離激元 介質 模式 耦合 復合型 光纖 | ||
1.一種基于表面等離激元與介質模式耦合的復合型光纖,包括:金屬納米線、基底層和介質納米線,其特征在于:
所述金屬納米線和所述介質納米線均嵌于所述基底層中;
所述介質納米線位于所述金屬納米線周圍與所述金屬納米線互不接觸,且所述介質納米線到所述金屬納米線的最小距離為所傳輸的光信號波長的0.01-0.1倍;
所述金屬納米線的寬度及高度均為所傳輸的光信號波長的0.03-0.4倍;
所述介質納米線的寬度及高度均為所傳輸的光信號波長的0.03-0.4倍;
進一步的,所述介質納米線的數量為三個,且所述三個介質納米線之間互不接觸;所述三個介質納米線中的每兩個介質納米線之間的間距相等,該間距最小為所傳輸的光信號波長的0.2-0.8倍;
所述三個介質納米線的折射率相同,所述基底層的折射率與所述三個介質納米線的折射率比值小于0.75。
2.根據權利要求1所述的復合型光纖,其特征在于,
所述金屬納米線的材料為金、銀、鋁、銅、鈦、鎳、鉻、鈀中的任何一種。
3.根據權利要求1所述的復合型光纖,其特征在于,
所述金屬納米線的材料為金、銀、鋁、銅、鈦、鎳、鉻、鈀中的任何一種的合金。
4.根據權利要求1所述的復合型光纖,其特征在于,
所述金屬納米線的材料為金、銀、鋁、銅、鈦、鎳、鉻、鈀中的任何兩種以上金屬構成的復合材料。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國人民解放軍總參謀部第五十四研究所,未經中國人民解放軍總參謀部第五十四研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310646127.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種鑄件蠟模生產用制蠟機
- 下一篇:鋼筋自動彎箍機的多規格矯直排切換機構





