[發(fā)明專利]一種多模式成像方法和設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310645252.5
• 申請日: 2013-12-03
• 公開（公告）號: CN103604422A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馮能云;陳云亮
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市開立科技有限公司
• 主分類號: G01C11/02
• 分類號: G01C11/02;G01N21/01;A61B10/04;A61B5/00
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1.一種多模式成像方法，其特征在于，包括：

將多模式掩膜板貼合在黑白數(shù)字相機的圖像傳感器陣列表面；

曝光，獲取原始成像數(shù)據(jù)；

對原始成像數(shù)據(jù)進行多模式圖像處理。

2.如權(quán)利要求1所述的多模式成像方法，其特征在于，所述多模式掩膜板包括多個成像單元，每個所述成像單元包括多個掩膜單元，一個成像單元內(nèi)的不同掩膜單元進行不同方式的鍍膜。

3.如權(quán)利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述多模式掩膜板的尺寸與所述圖像傳感器陣列尺寸一致。

4.如權(quán)利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述掩膜單元的尺寸和所述圖像傳感器陣列中的像元尺寸一致。

5.如權(quán)利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述一個成像單元內(nèi)的不同掩膜單元進行不同方式的鍍膜具體為：

當(dāng)應(yīng)用在內(nèi)窺鏡自發(fā)熒光成像領(lǐng)域，一個成像單元內(nèi)的一些掩膜單元被鍍上與自發(fā)熒光波長對應(yīng)的濾膜，另一些掩膜單元進行標(biāo)準(zhǔn)RGB三色鍍膜；

或者，當(dāng)應(yīng)用在偏振光成像領(lǐng)域，一個成像單元內(nèi)的不同掩膜單元被鍍上不同偏振態(tài)的濾膜；

或者，當(dāng)應(yīng)用在多波長成像領(lǐng)域，一個成像單元內(nèi)的不同掩膜單元被鍍上與不同波長對應(yīng)的濾膜。

6.如權(quán)利要求1所述的多模式成像方法，其特征在于，所述對原始成像數(shù)據(jù)進行多模式圖像處理包括：分別提取原始成像數(shù)據(jù)中鍍膜特性一致的像元，獲取各模式的圖像信息。

7.一種多模式成像設(shè)備，包括黑白數(shù)字相機，所述黑白數(shù)字相機具有圖像傳感器陣列，其特征在于，所述圖像傳感器陣列表面貼合有多模式掩膜板。

8.如權(quán)利要求7所述的多模式成像設(shè)備，其特征在于，所述多模式掩膜板包括多個成像單元，每個所述成像單元包括多個掩膜單元，一個成像單元內(nèi)的不同掩膜單元具有不同方式的鍍膜。

9.如權(quán)利要求8所述的多模式成像設(shè)備，其特征在于，所述多模式掩膜板的尺寸與所述圖像傳感器陣列尺寸一致。

10.如權(quán)利要求8所述的多模式成像設(shè)備，其特征在于，所述掩膜單元的尺寸和所述圖像傳感器陣列中的像元尺寸一致。