[發明專利]懸浮掩膜板的制作方法

有效

• 申請號: 201310643254.0
• 申請日: 2013-12-03
• 公開（公告）號: CN104668894B
• 公開（公告）日: 2017-02-08
• 發明（設計）人: 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學澤;周楊
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: B23P15/00
• 分類號: B23P15/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 張亞利,駱蘇華

技術領域

本發明涉及機械加工領域，尤其涉及懸浮掩膜板的制作方法。

背景技術

真空濺鍍是由電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子（或分子）沉積在基片上成膜，而最終達到對基片表面鍍膜的目的。為了更好的固定靶材，提高基片表面鍍膜質量，需要在濺射基臺和靶材之間安裝懸浮掩膜板。

目前對懸浮掩膜板的機械加工工藝不成熟，加工出的懸浮掩膜板的加工精度不高。

有鑒于此，實有必要提出一種懸浮掩膜板的加工方法，避免上述缺陷。

發明內容

本發明解決的問題是對懸浮掩膜板的機械加工工藝非常不成熟，加工出的懸浮掩膜板的加工精度不高。

為解決上述問題，本發明提供一種懸浮掩膜板的制作方法，包括：

提供方形板坯料，對所述方形板坯料的正面進行車削形成平行于長邊的第一斜面、平行于寬邊的第二斜面，所述第一斜面和第二斜面垂直、相連；

在所述第一斜面外側的方形板坯料上形成第一通孔，在所述第二斜面外側的方形板坯料上形成第二通孔；

在所述第一斜面內側的方形板坯料上形成靠近第一斜面的第一凹槽，在所述第二斜面內側的方形板坯料上形成靠近第二斜面的第二凹槽；

對所述方形板坯料的背面進行車削，形成與所述第一斜面相對的第三斜面、與所述第二斜面相對的第四斜面，所述第三斜面和第四斜面垂直、相連，所述第三斜面上具有與第一凹槽相對的第一凸臺，所述第四斜面上具有與第二凹槽相對的第二凸臺；

在所述第三斜面外側的方形板坯料上形成與第一通孔連通的第三通孔，在所述第四斜面外側的方形板坯料上形成與第二通孔連通的第四通孔；

沿所述第三斜面、第四斜面內側邊緣線切割形成懸浮掩膜板第一部分；

將所述懸浮掩膜板第一部分拼接成方形框。

可選的，所述第一斜面、第二斜面各為兩個時，所述第一斜面和第二斜面圍成一個長方形，所述第一斜面與第二斜面的連接處位于所述方形板坯料的正面的對角。

可選的，所述懸浮掩膜板的制作方法還包括：

提供長條板坯料，對所述長條板坯料的正面進行車削形成平行于長條板坯料長邊的第五斜面；

在所述第五斜面一側的長條板坯料上形成第五通孔，在所述第五斜面另一側的長條板坯料上形成靠近第五斜面的第三凹槽，所述第五斜面一側的長條板坯料的高度小于所述第五斜面另一側的長條板坯料的高度；

對所述長條板坯料的背面進行車削，形成于與第五斜面相對的第六斜面，所述第六斜面上具有與第三凹槽相對的第三凸臺；

在所述第六斜面一側的長條板坯料上形成與第五通孔連通的第六通孔，形成懸浮掩膜板第二部分，所述第六斜面一側與所述第五斜面一側為相同側；

將所述懸浮掩膜板第二部分拼接在所述兩個懸浮掩膜板第一部分之間。

可選的，所述第一斜面或第二斜面與第五斜面等高且等寬，所述第三斜面或第四斜面與第六斜面等高且等寬。

可選的，所述第一斜面外側的方形板坯料、第二斜面外側的方形板坯料與第五斜面一側的長條板坯料等高且等寬；

所述第一斜面內側的方形板坯料、第二斜面內側的方形板坯料與所述第五斜面另一側的長條板坯料等高且等寬；

所述第一斜面內側的方形板坯料高于第一斜面外側的方形板坯料；

所述第三斜面外側的方形板坯料、第四斜面外側的方形板坯料與所述第六斜面一側的長條板坯料等高且等寬。

可選的，采用夾具對所述長條板坯料背面進行車削加工時，所述夾具的頂面與所述第五斜面、所述第五斜面內側的長條板坯料、所述第五斜面外側的長條板坯料相契合。

可選的，對所述方形板坯料正面進行車削加工前，對所述方形板坯料進行熱處理，所述方形板坯料的材料為工業純鈦，所述熱處理的溫度為大于等于440℃～460℃，在所述熱處理溫度下保溫115min～125min。

可選的，對所述長條板坯料正面進行車削加工前，對所述長條板坯料進行熱處理，所述長條板坯料的材料為工業純鈦，所述熱處理的溫度為大于等于440℃～460℃，在所述熱處理溫度下保溫115min～125min。

可選的，所述熱處理后，還包括空冷的步驟。

與現有技術相比，本發明的技術方案具有以下優點：