[發(fā)明專利]一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310638911.2 | 申請日: | 2013-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN103601198A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李江濤 | 申請(專利權)人: | 西安文理學院 |
| 主分類號: | C01B33/12 | 分類號: | C01B33/12;B01J20/283;B01J20/30;B01D15/08 |
| 代理公司: | 西安西交通盛知識產(chǎn)權代理有限責任公司 61217 | 代理人: | 王艾華 |
| 地址: | 710065 陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二氧化硅 色譜 填料 及其 制備 方法 | ||
1.一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)將三嵌段共聚物加入水中,攪拌均勻后加入酸性溶液,攪拌反應后,加入正硅酸乙酯,在40~50℃下繼續(xù)攪拌反應,得到反應液;其中,三嵌段共聚物、正硅酸乙酯、酸性溶液與水的質(zhì)量比為(1~3):(8~15):(3~8):(100~150);
2)將反應液在100~150℃下,水熱反應后,抽濾,將濾餅洗滌、干燥后,得到雜合體;
3)將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在60~130℃下水熱氧化反應后,再經(jīng)冷卻、過濾,最后將濾渣水洗至中性后干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;其中,所加入的雜合體與高氯酸銨的質(zhì)量比為(1~3):(0.2~0.7),且每1~3g雜合體加入10~30mL濃度為6.0~10.0mol/L的硝酸。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,所述的三嵌段共聚物為三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,所述的三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物為EO13PO70EO13、EO17PO85EO17、EO20PO70EO20、EO20PO30EO20、EO26PO39EO26、EO100PO39EO100、EO106PO70EO106、EO123PO47EO123、EO132PO50EO132、PO19EO33PO19或EO39BO47EO39等中的一種或幾種。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,步驟1)所述的酸性溶液為質(zhì)量分數(shù)為30~37%的鹽酸溶液。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟1)所述的攪拌反應時間為1~3h,繼續(xù)攪拌反應時間為16~30h。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟2)所述的水熱反應時間為18~30h。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟3)所述的水熱氧化反應時間為8~20h。
8.根據(jù)權利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,步驟2)、3)所述的干燥是在80~100℃下烘干。
9.一種采用權利要求1~8中任意一項所述的方法制得的介孔二氧化硅色譜填料,其特征在于:該介孔二氧化硅色譜填料的孔徑為5.43~6.93nm,外表面積為316~421m2/g,微孔表面積為29~167m2/g,總孔體積為0.48~0.72cm3/g,微孔體積為0.017~0.09cm3/g,介孔率為81%~97%。
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