[發明專利]一種寬光譜Offner成像光譜儀分光系統無效
| 申請號: | 201310638540.8 | 申請日: | 2013-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN103604498A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發明(設計)人: | 韓姍;黃元申;黃運柏;蘇仰慶;丁偉濤;李柏承;徐邦聯 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | G01J3/02 | 分類號: | G01J3/02;G01J3/28;G02B27/10 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吳寶根 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光譜 offner 成像 光譜儀 分光 系統 | ||
1.一種寬光譜Offner成像光譜儀分光系統,其特征在于,包括光源(5)、兩個凹面反射鏡(1、3)、凸面光柵(2)和面陣探測器(4),凸面光柵(2)凸面對著兩塊凹面反射鏡(1、3)凹面放置,使三者的球心均置于光軸Z上,光源(5)放置在垂直于光軸Z的平面內,并位于第一凹面反射鏡(1)凹面前方,光源(5)發出的光束照射到第一凹面反射鏡(1)上,經過第一凹面反射鏡(1)反射到凸面光柵(2)上,經過凸面光柵(2)后得到的衍射光譜再照射到第二凹面反射鏡(3)上,最后經第二凹面反射鏡(3)匯聚到面陣探測器(4)上。
2.根據權利要求1所述寬光譜Offner成像光譜儀分光系統,其特征在于,所述凸面光柵(2)的曲率半徑為88.7mm,刻線數為100/mm的等間距刻槽,第一凹面反射鏡(1)的曲率半徑為160.9mm,第二凹面反射鏡(3)的曲率半徑為160.1mm,將凸面光柵(2)和兩凹面反射鏡(1、3)的球心均置于光軸Z上。
3.根據權利要求2所述寬光譜Offner成像光譜儀分光系統,其特征在于,所述光源(5)距離第一凹面反射鏡(1)為123.9mm,此距離是指光源(5)在Z軸上的垂點和第一凹面反射鏡(1)與Z軸的交點之間的距離;兩凹面反射鏡(1、3)與凸面光柵(2)的距離同時為75.7mm,此距離是指兩凹面反射鏡(1、3)和凸面光柵(2)分別與Z軸的交點之間的距離;將面陣探測器(4)放置在距離第二凹面反射鏡(3)189.4mm處,此距離是指面陣探測器在Z軸上的垂點和第二凹面反射鏡(3)與Z軸的交點之間的距離,面陣探測器取-1級光譜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海理工大學,未經上海理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310638540.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種縮分機
- 下一篇:工業建筑結構與部件防爆、泄壓與抑爆性能評價裝置及方法





