[發明專利]生酸劑化合物和含有其的光致抗蝕劑組合物

有效

• 申請號: 201310637230.4
• 申請日: 2013-09-16
• 公開（公告）號: CN103728836B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: P·J·拉寶美;A·A·瑞奇福德;V·簡恩
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司;陶氏環球技術有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包括：

(a)聚合物；和

(b)包含式(I)結構的生酸劑化合物：

其中：Z是抗衡陰離子；

R是非氫取代基；

X是>C＝O；

每個T和每個T'是相同或不同的非氫取代基；

每個L和每個L'是相同或不同的酸不穩定性基團，且T、L、T'和L'非氫基團可以一起形成環；

m和m'各自獨立的為0、1、2、3或4；并且

n和n'各自獨立的為0、1、2、3或4，

其中如果R不包含酸不穩定性基團，那么n和n'中的至少一個大于0，由此生酸劑化合物包括至少一個酸不穩定性基團。

2.權利要求1的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑包括式(IA)的結構：

其中：Z是抗衡陰離子；

X是>C＝O；

每個T、每個T'和每個T”是相同或不同的非氫取代基；

每個L、每個L'和每個L”是相同或不同的酸不穩定性基團，且T、L、T'、L'、T”和L”非氫基團可以一起形成環；

m和m'各自獨立的為0、1、2、3或4；m”是0、1、2、3、4或5；n和n'各自獨立的為0、1、2、3或4；n”獨立的是0、1、2、3、4或5；且n、n'和n”中的至少一個不是0。

3.權利要求1的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑包括式(IC)的結構：

其中：Z是抗衡陰離子；

每個T、每個T'和每個T”是相同或不同的非氫取代基；

每個L、每個L'和每個L”是相同或不同的酸不穩定性基團，且T、L、T'、L'、T”和L”非氫基團可以一起形成環；

m和m'各自獨立的為0、1、2、3或4；m”是0、1、2、3、4或5；n和n'各自獨立的為0、1、2、3或4；n”獨立的是0、1、2、3、4或5；且n、n'和n”中的至少一個不是0。

4.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑化合物包含下式(II)的酸不穩定性基團：

-(C＝O)OR³ (II)

其中R³是提供酸不穩定性部分的非氫取代基。

5.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑化合物包含下式(III)的酸不穩定性基團：

-O(CXY)_nR³ (III)

其中X和Y各自獨立的為氫或非氫取代基；R³是提供酸不穩定性部分的非氫取代基；且n是正整數。

6.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑化合物在標準還原電勢試驗中表現出-0.9到0V(vs.Ag/AgCl，陰極峰電勢)的還原電勢。

7.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中生酸劑化合物與聚合物共價相連。

8.一種提供光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，所述方法包括：

a)在基材上施用權利要求1到7中任一項的光致抗蝕劑組合物的涂層；以及b)使該光致抗蝕劑組合物層曝光于活化輻射并且使曝光的光致抗蝕劑組合物涂層顯影。

9.權利要求8的方法，其中光致抗蝕劑組合物層曝光于EUV或e-電子束輻射。

10.如權利要求1-7中任一項所述的生酸劑化合物。