[發明專利]包含多種生酸劑化合物的光致抗蝕劑

在審

• 申請號: 201310637229.1
• 申請日: 2013-09-16
• 公開（公告）號: CN103676478A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: J·W·撒克里;成鎮旭;P·J·拉寶美;V·簡恩
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑包括：

(a)包含與其相連的生酸劑的聚合物；和

(b)并不與聚合物相連的且包含一個或多個酸不穩定性基團的生酸劑化合物。

2.權利要求1的光致抗蝕劑組合物，其中(a)連接的生酸劑和/或(b)生酸劑化合物包含锍部分和/或碘鎓部分。

3.權利要求1或2的光致抗蝕劑組合物，其中(a)連接的生酸劑和/或(b)生酸劑化合物包含噻噸酮部分。

4.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中(a)連接的生酸劑和/或(b)生酸劑化合物包含二苯并噻吩部分。

5.權利要求1到3中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中(a)連接的生酸劑包含與聚合物共價連接的陰離子組分。

6.權利要求1到5中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中(a)連接的生酸劑包含酸不穩定性基團。

7.權利要求1到6中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中(b)生酸劑化合物的酸不穩定性基團在生酸劑化合物的陽離子組分上。

8.權利要求1到7中任一項的光致抗蝕劑組合物，其中相對于(a)具有連接的生酸劑的聚合物，(b)生酸劑化合物以10到50重量％的量存在。

9.一種提供光致抗蝕劑浮雕圖象的方法，所述方法包括：

a)在基材上施用權利要求1到8中任一項的光致抗蝕劑組合物的涂層；并且

b)使該光致抗蝕劑組合物層曝光于活化輻射并且使曝光的光致抗蝕劑組合物涂層顯影。

10.權利要求9的方法，其中光致抗蝕劑組合物層曝光于EUV或e-電子束輻射。