[發明專利]一種浸沒式曝光設備

有效

• 申請號: 201310636170.4
• 申請日: 2013-12-03
• 公開（公告）號: CN104678712A
• 公開（公告）日: 2015-06-03
• 發明（設計）人: 吳飛
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種浸沒式曝光設備，包括硅片傳輸裝置，掩模傳輸裝置以及從下至上依次設置的光源、照明、掩模臺、投影物鏡、浸沒場維持裝置和工件臺；所述硅片傳輸裝置位于所述硅片臺一側；所述掩模傳輸裝置位于所述掩模臺一側；從所述光源發出的光通過照明后，出射至位于所述掩模臺上的掩模版，然后攜帶著掩模圖像信息穿過所述投影物鏡進入所述浸沒場維持裝置的浸液中，進而投影到位于所述工件臺上的硅片的表面上；所述硅片的曝光表面在曝光時位于浸沒場維持裝置的浸液中，其特征在于，所述浸沒場維持裝置中的液面高度可控，所述浸沒場維持裝置具有進液口和出液口。

2.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于：所述浸沒場維持裝置為多面體的圍欄結構，所述圍欄結構可動，從而可以調節圍欄結構的側面與底面之間的角度，進而控制其內部的液面高度。

3.根據權利要求2所述的曝光設備，其特征在于：所述圍欄結構的側面由剛性材料制成，側面之間具有柔性且密封的連接部分，使得圍欄結構的側面可柔性開合。

4.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于：所述浸沒場維持裝置的進液口和出液口在操作過程中可打開和關閉，在硅片進入曝光工作位后，進液口打開，向浸沒場維持裝置中灌入浸液，使得液面升高，完成曝光后，將進液口關閉，并打開出液口，排除部分浸液，降低液面高度。

5.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于：所述浸沒場維持裝置中設置有一氣體填充物，通過向填充物中充填和排出氣體而改變浸沒場維持裝置中的內腔體積，使得液面上升和下降。

6.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于：所述浸沒場維持裝置的浸液在進液口和出液口之間可形成連續的流場，進液口的射流角度可調，通過調節進液口的射流角度，在曝光局部區域之間形成隆起，使得硅片的曝光表面位于隆起中。

7.根據權利要求6所述的曝光設備，其特征在于：所述出液口的排出流量和進液口的進液流量基本相等，從而保持整個浸沒場維持裝置的液面高度穩定。

8.根據權利要求1-7中任意一個所述的曝光設備，其中所述浸沒場維持裝置中設置有浸液隔離層，使得隔離層上部的液體流動時不會干擾到隔離層下部的液體，從而減小浸液流動對物鏡和曝光產生的影響。

9.根據權利要求1-8中任意一個所述的曝光設備，其特征在于：該曝光設備還包括一吸排裝置，該吸排裝置具有數排可吸液的吸排孔，硅片完成曝光后表面的液體受到重力和吸排力的作用進入吸排裝置的吸排孔中。

10.根據權利要求9所述的曝光設備，其特征在于：該吸排裝置還具有一液體收集器，進入吸排孔的液體被收集到液體收集器中，進而被傳輸回浸沒場維持裝置中。

11.根據權利要求1-10中任意一個所述的曝光設備，其特征在于：所述硅片的上表面被吸附于工件臺上。

12.根據權利要求1-11中任意一個所述的曝光設備，其特征在于：所述工件臺包括粗動臺和微動臺。

13.根據權利要求1-12中任意一個所述的曝光設備，其特征在于：所述掩模臺包括粗動臺和微動臺。

14.根據權利要求1-13中任意一個所述的曝光設備，其特征在于：所述浸沒場維持裝置的底部為投影物鏡光路出口的最后一片鏡片。