[發明專利]一種高能激光勻化腔衰減器

有效

• 申請號: 201310633652.4
• 申請日: 2013-11-29
• 公開（公告）號: CN103644967A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 吳勇;楊鵬翎;趙海川;陳紹武;王振寶;閆燕;馮國斌
• 申請（專利權）人: 西北核技術研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04
• 代理公司: 西安文盛專利代有限公司 61100
• 代理人: 李中群

1.一種高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：包括沿入射激光方向依次設置的前面板（1）、小孔取樣板（3）、衰減板（5）和輸出面板（7）；

所述的前面板（1）和小孔取樣板（3）上加工有大角度取樣錐孔（9），所述的大角度取樣錐孔（9）的開口端設置在前面板（2）上，并迎著激光入射方向，大角度錐孔（9）的尾端設置小孔取樣板（3）的內部，并與小孔取樣板（3）后端同軸設置的通光直孔（8）相通；

所述的衰減板（5）的前端設置有勻化腔（4），所述的勻化腔（4）和衰減板的后端面之間設置有透光通道（10），所述的透光通道（10）平行于大角度取樣錐孔（）9的軸線，并以其為對稱軸呈圓對稱分布；

所述的輸出面板7的前端設置有勻化腔（6），勻化腔（6）和后端面之間設置有輸出孔（11），所述輸出孔（11）與大角度取樣錐孔（9）同軸設置；

所述的勻化腔（4、6）為內表面為漫反射面的空腔。

2.根據權利要求1所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的透光通道（10）的橫截面為若干只對稱排布的圓孔。

3.根據權利要求1所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的透光通道（10）的橫截面為若干只對稱排布的月牙形孔。

4.根據權利要求1-3任意之一所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：還包括在大角度取樣錐孔（9）中部插入的漫透射片（2），所述的漫透射片（2）與大角度取樣錐孔（9）的軸線垂直。

5.根據權利要求4所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的漫透射片（2）材料為石英、硅或三氧化二鋁。

6.根據權利要求1-3任意之一所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的輸出面板（7）的后端設置有探測器限位孔（12），所述的輸出孔（11）正對探測器的光敏面。

7.根據權利要求1-3任意之一所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的勻化腔（4、6）內設置有漫透射片。

8.根據權利要求7所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述的漫透射片材料為石英、硅或三氧化二鋁。

9.根據權利要求1-3任意之一所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述前面板（1）、小孔取樣板（3）、衰減板（5）和輸出面板（7）的材料為石墨、鋁、銅或銅鋁復合材料。

10.根據權利要求1-3任意之一所述的高能激光勻化腔衰減器，其特征在于：所述前面板（1）的迎光面為漫反射面或鏡面反射面。