[發(fā)明專利]觀察圖形光譜的天文濾光片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310631592.2 | 申請日： | 2013-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN103713348A | 公開（公告）日： | 2014-04-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 呂晶;王繼平;胡偉琴 | 申請（專利權(quán)）人： | 杭州麥樂克電子科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241 | 代理人： | 周豪靖 |
| 地址： | 311188 浙江省杭州市*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 觀察 圖形 光譜 天文 濾光 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種觀察圖形光譜的天文濾光片，包括以Si為原材料的基板，以Ge、SiO為第一鍍膜層和以Ge、SiO為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，其特征是：所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有：102nm厚度的Ge層、142nm厚度的SiO層、171nm厚度的Ge層、263nm厚度的SiO層、124nm厚度的Ge層、374nm厚度的SiO層、128nm厚度的Ge層、312nm厚度的SiO層、137nm厚度的Ge層、410nm厚度的SiO層、107nm厚度的Ge層、345nm厚度的SiO層、124nm厚度的Ge層和772nm厚度的SiO層；所述第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有：90nm厚度的Ge層、163nm厚度的SiO層、130nm厚度的Ge層、165nm厚度的SiO層、481nm厚度的Ge層和547nm厚度的SiO層。
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