[發(fā)明專利]監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310631529.9
• 申請(qǐng)日: 2013-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN103645211A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范榮偉;倪棋梁;龍吟;陳宏璘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G01N27/00
• 分類號(hào): G01N27/00;G01R35/00
• 代理公司: 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陶金龍

1.一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，包括：

于在線產(chǎn)品晶圓上建立一個(gè)或多個(gè)缺陷測(cè)試模塊，所述缺陷測(cè)試模塊為標(biāo)準(zhǔn)SRAM結(jié)構(gòu)中改變通孔與有源區(qū)的接觸面積得到；

在所述通孔中的填充金屬平坦化后，以所述缺陷測(cè)試模塊為掃描區(qū)域，建立圖片抓取程式，通過(guò)電子束缺陷掃描儀掃描所述缺陷測(cè)試模塊，其中，根據(jù)所述缺陷測(cè)試模塊中通孔與有源區(qū)的接觸面積不同，掃描結(jié)果也不同；

將所述缺陷測(cè)試模塊的掃描結(jié)果與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)SRAM結(jié)構(gòu)掃描結(jié)果相對(duì)比，判斷所述電子束缺陷掃描儀檢測(cè)缺陷的能力，進(jìn)而監(jiān)控所述電子束缺陷掃描儀的靈敏度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，所述缺陷測(cè)試模塊位于在線產(chǎn)品晶圓的切割道上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，所述缺陷測(cè)試模塊為多個(gè)，其中所述多個(gè)缺陷測(cè)試模塊間的通孔與有源區(qū)的接觸面積互不相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，所述多個(gè)缺陷測(cè)試模塊間的通孔與有源區(qū)的接觸面積互不相同時(shí)，掃描結(jié)果具有不同的灰階度。其中，所述缺陷測(cè)試模塊中的通孔完全與有源區(qū)相連時(shí)，掃描結(jié)果最亮；所述缺陷測(cè)試模塊中的通孔完全與有源區(qū)不相連時(shí)，掃描結(jié)果最暗。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，將多個(gè)所述缺陷測(cè)試模塊的掃描結(jié)果與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)SRAM結(jié)構(gòu)掃描結(jié)果相對(duì)比，判斷所述電子束缺陷掃描儀檢測(cè)多個(gè)缺陷的能力，進(jìn)而監(jiān)控所述電子束缺陷掃描儀的靈敏度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，所述電子束缺陷掃描儀采用的是正電勢(shì)工作條件。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種監(jiān)控電子束缺陷掃描儀靈敏度的方法，其特征在于，所述金屬為鎢。