[發明專利]方塊電阻測量設備及吸盤有效
| 申請號： | 201310631418.8 | 申請日： | 2013-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN103645381A | 公開（公告）日： | 2014-03-19 |
| 發明（設計）人： | 葉青;劉瑋;徐伯山;周峻晨;倪戰平;馮君;呂杰;黃磊 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G01R27/02 | 分類號： | G01R27/02;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吳世華;陶金龍 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 方塊 電阻 測量 設備 吸盤 | ||
1.一種方塊電阻測量設備，其特征在于，包括：
吸盤，所述吸盤的內腔中設置有多條真空氣路，所述吸盤吸附晶圓的表面設置有真空孔，多個所述真空氣路與所述真空孔連通，在所述真空氣路中有選擇性的設置氣體控制機構；
真空氣管，所述真空氣管與所述吸盤內腔中的真空氣路相通，再通過所述氣體控制機構控制所述真空氣路的真空氣壓，維持所述吸盤吸附晶圓時需要的真空氣壓。
2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，根據晶圓發生變形的可能部位來設置所述氣體控制機構。
3.根據權利要求2所述的設備，當晶圓的外延發生翹起變形，則僅在所述吸盤表面最外圍所述真空孔對應的所述真空氣路中設置所述氣體控制機構。
4.根據權利要求2所述的設備，在所述吸盤的內腔中每條所述真空氣路中均設置氣體控制機構。
5.根據權利要求1-3任一所述的設備，其特征在于，所述氣體控制機構為一氣動閥，用于通過開關狀態，控制所述真空氣路的真空氣壓。
6.一種吸盤，其特征在于，所述吸盤的內腔中設置有多條真空氣路，所述吸盤吸附晶圓的表面設置有真空孔，多個所述真空氣路與所述真空孔連通，在所述真空氣路中有選擇性的設置氣體控制機構。
7.根據權利要求6所述的吸盤，其特征在于，根據晶圓發生變形的可能部位來設置所述氣體控制機構。
8.根據權利要求6所述的吸盤，當晶圓的外延發生翹起變形，則僅在所述吸盤表面最外圍所述真空孔對應的所述真空氣路中設置所述氣體控制機構。
9.根據權利要求6所述的吸盤，在所述吸盤的內腔中每條所述真空氣路中均設置氣體控制機構。
10.根據權利要求6-9任一所述的吸盤，其特征在于，所述氣體控制機構為一氣動閥，用于通過開關狀態，控制所述真空氣路的真空氣壓。
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