[發(fā)明專利]復(fù)合薄膜作為紅外吸收層的熱電堆紅外氣體探測器及其加工方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310630488.1 | 申請日: | 2013-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN103698020B | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 譚秋林;陳媛婧;熊繼軍;薛晨陽;張文棟;劉俊;毛海央;明安杰;歐文;陳大鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 中北大學(xué) |
| 主分類號: | G01J5/12 | 分類號: | G01J5/12;G01N21/3504;H01L35/32;H01L35/34 |
| 代理公司: | 太原晉科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 任林芳 |
| 地址: | 030051*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 薄膜 作為 紅外 吸收 熱電 氣體探測器 及其 加工 方法 | ||
本發(fā)明屬于熱電堆紅外氣體探測器的技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種復(fù)合薄膜作為紅外吸收層的熱電堆紅外氣體探測器及其加工方法,解決了傳統(tǒng)熱電堆紅外探測器熱電轉(zhuǎn)化率低和釋放過程中懸浮結(jié)構(gòu)易損壞等問題。其包括SOI襯底、熱偶條、SiO2介質(zhì)層、金屬連接和焊盤、SiO2隔離層以及吸收層,N/P多晶硅熱偶條的冷端支撐于SOI襯底,吸收層懸浮設(shè)置于探測器的頂部。本發(fā)明利用復(fù)合納米薄膜對近紅外波段較強(qiáng)的吸收率,并且將吸收層懸浮于器件上方,提高了器件單元占空比,相應(yīng)地提高探測器的響應(yīng)率和探測率,進(jìn)而優(yōu)化探測器的性能指標(biāo)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于熱電堆紅外氣體探測器的技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種復(fù)合薄膜作為紅外吸收層的熱電堆紅外氣體探測器及其加工方法。
背景技術(shù)
自1800年W.herschel發(fā)現(xiàn)紅外輻射至今,紅外探測技術(shù)被廣泛地應(yīng)用于夜視儀、紅外制導(dǎo)、熱像儀等軍事領(lǐng)域,也被應(yīng)用于氣體檢測、公共安全、紅外測溫等民用領(lǐng)域。熱電堆紅外探測器的工作原理是基于塞貝克效應(yīng),即兩種不同材料A和B有公共連接端作為熱端,另一端不相連作為冷端,當(dāng)熱端受熱時(shí),在A和B組成的回路中產(chǎn)生電勢使熱能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔堋T撾妱莶钊Q于金屬的電子逸出功和有效電子密度這兩個(gè)因素,半導(dǎo)體材料的溫差電勢較大,可作為塞貝克材料。輸出電勢與溫差關(guān)系表達(dá)式為:Uout=(αA-αB)*ΔT。其中αA、αB分別為兩種材料的塞貝克系數(shù)。
熱電堆紅外探測器因其工作原理簡單、數(shù)據(jù)處理簡便、無需斬波器、無需偏置電壓、工作波段帶寬大而成為主流紅外探測器。為提高熱電堆紅外探測器性能,大量的研究基于器件尺寸優(yōu)化和研發(fā)高吸收率材料而展開,具體方法包括降低熱電堆導(dǎo)熱過程中的輻射導(dǎo)熱和對流導(dǎo)熱來提高熱轉(zhuǎn)換效率,以及增大有效導(dǎo)熱長度等。在提高器件占空比的研究中,王躍林團(tuán)隊(duì)成功加工了諸多正面釋放的單層懸浮結(jié)構(gòu),克服了背腔腐蝕對硅襯底晶向的要求,實(shí)現(xiàn)了對尺寸的進(jìn)一步降低,但是單層排布的熱電偶和吸收層互相限制了各自有效功能區(qū)域的增大。為了進(jìn)一步提高空間利用率,Toriyama的團(tuán)隊(duì)成功制造了一種縱向排布的熱電偶陣列,下部和襯底相連作為冷端,其熱端在上部,共同支撐一張吸收層薄膜。但是制作熱電偶過程中仍殘余較大應(yīng)力,導(dǎo)致熱電偶彎曲,以這種彎曲熱電偶來作為吸收層的支撐結(jié)構(gòu),不利于結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性,同時(shí)彎曲熱電偶的兩端和吸收層以及襯底的接觸不佳,不利于提高器件整體的熱點(diǎn)轉(zhuǎn)換效率。因此,更多的研究把優(yōu)化器件性能,同時(shí)提高器件占空比的焦點(diǎn)集中在將吸收層和熱電偶置于不同的平面。Marc C. Foote成功加工了雙層聚酰亞胺犧牲層的熱電堆紅外探測器,實(shí)現(xiàn)了熱電偶與襯底、吸收層與熱電偶的分離,但是熱電偶熱端置于器件中間,與熱偶條熱端接觸,這就導(dǎo)致了熱偶條共用同一熱端,引起較大熱串?dāng)_。與此同時(shí),熱偶條材料采用Bi-Te和Bi-Sb-Te的材料,也并不與CMOS工藝兼容,不利于高精度的批量生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決傳統(tǒng)熱電堆紅外探測器熱電轉(zhuǎn)化率低和釋放過程中懸浮結(jié)構(gòu)易損壞等問題,提供了一種復(fù)合薄膜作為紅外吸收層的熱電堆紅外氣體探測器及其加工方法。
本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種復(fù)合薄膜作為紅外吸收層的熱電堆紅外氣體探測器,包括SOI襯底、熱偶條、SiO2介質(zhì)層、金屬連接和焊盤、SiO2隔離層以及吸收層,其特征在于N/P多晶硅熱偶條的冷端支撐于SOI襯底,吸收層懸浮設(shè)置于探測器的頂部。
SOI襯底上設(shè)置對稱的雙隔離槽,兩個(gè)隔離槽上方分別對應(yīng)設(shè)置有沿探測器的對稱軸排布的懸浮設(shè)置的熱偶條,熱偶條的冷端設(shè)置于探測器的對稱軸之上并由SOI襯底支撐,熱偶條與SOI襯底之間為SiO2介質(zhì)層,熱偶條上部為SiO2隔離層,SiO2介質(zhì)層與SiO2隔離層厚度相等,兩排熱偶條的熱端上方分別對應(yīng)刻蝕聚酰亞胺犧牲層形成的熱接觸槽,SiO2隔離層之上為聚酰亞胺犧牲層釋放后的空腔和熱接觸槽,空腔之上為整體覆蓋于探測器頂部的懸浮的吸收層,吸收層僅通過熱接觸槽與熱偶條的熱端連接。
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