[發明專利]觀察化學機械研磨工藝中對金屬腐蝕情況的方法有效
| 申請號： | 201310630329.1 | 申請日： | 2013-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN103659574A | 公開（公告）日： | 2014-03-26 |
| 發明（設計）人： | 倪棋梁;范榮偉;陳宏璘;龍吟 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/04 | 分類號： | B24B37/04;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 觀察 化學 機械 研磨 工藝 金屬腐蝕 情況 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種觀察化學機械研磨工藝中對金屬腐蝕情況的方法，應用于離子阱濃度不同的半導體器件結構中，其特征在于，所述方法包括：
在一晶圓的切割道上設置若干個具有同一離子種類和離子濃度的離子阱；
在每個所述離子阱的上方通過兩個接觸孔連接兩個化學機械研磨后形成的金屬線；
將每個所述離子阱按照所述金屬線之間的距離遞減的順序進行排列；
通過顯微鏡對所述金屬線表面進行觀察。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述離子阱包括一P型阱區以及形成于該P型阱區內的一P型阱和一N型阱。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述接觸孔之間通過絕緣材料進行隔離。
4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，形成兩個所述金屬線的具體方法為：
在所述接觸孔和所述絕緣材料的上表面制備一層絕緣層；
在位于每個所述接觸孔上方的絕緣層中均形成有一個開口；
制備一層金屬層覆蓋每個所述開口和所述絕緣層的上表面；
對所述金屬層進行化學機械研磨，形成兩個所述金屬線。
5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述金屬層的材質為銅。
6.如權利要求2所述的方法，其特征在于，兩個所述接觸孔分別位于所述P型阱和所述N型阱的上方。
7.如權利要求4所述的方法，其特征在于，通過電鍍的工藝方法制備所述金屬層。
8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，采用電子顯微鏡對所述金屬線表面進行觀察。
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