[發(fā)明專(zhuān)利]基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310630279.7
• 申請(qǐng)日: 2013-11-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103646894A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何理;許向輝;郭賢權(quán);陳超
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/66
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陶金龍

1.一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S01：將芯片置于缺陷掃描機(jī)臺(tái)上進(jìn)行掃描，提取所述芯片內(nèi)所有缺陷的特征信息；

步驟S02：將所有缺陷的特征信息輸入到缺陷數(shù)據(jù)庫(kù)，獲取每一個(gè)缺陷所對(duì)應(yīng)的修正系數(shù)k，其中，該缺陷數(shù)據(jù)庫(kù)根據(jù)缺陷的所有特征信息對(duì)芯片良率的影響賦予不同的修正系數(shù)k；

步驟S03：統(tǒng)計(jì)所述芯片上所有經(jīng)修正的缺陷數(shù)量之和，與所述芯片的控制標(biāo)準(zhǔn)值w相比較，判斷芯片上的缺陷是否正常，其中，當(dāng)所述芯片上所有經(jīng)修正的缺陷數(shù)量之和小于控制標(biāo)準(zhǔn)值w時(shí)，芯片上的缺陷正常。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，在步驟S01之后還包括預(yù)判斷過(guò)程，其預(yù)先統(tǒng)計(jì)所述芯片上所有缺陷的數(shù)量之和，并與所述芯片的控制標(biāo)準(zhǔn)相比較。若所述芯片上所有缺陷的數(shù)量之和大于或等于控制標(biāo)準(zhǔn)，則芯片上的缺陷不正常；若所述芯片上所有缺陷的數(shù)量之和小于控制標(biāo)準(zhǔn)，進(jìn)入步驟S02。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述缺陷的特征信息包括位置、形狀、成分和尺寸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述缺陷數(shù)據(jù)庫(kù)通過(guò)在生產(chǎn)線上實(shí)時(shí)收集各種缺陷的特征信息，并根據(jù)每一缺陷的所有特征信息對(duì)芯片良率的影響賦予其相應(yīng)的修正系數(shù)k。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，根據(jù)每一缺陷的形狀、成分和尺寸來(lái)綜合判斷其對(duì)芯片良率的影響，進(jìn)而賦予其相應(yīng)的修正系數(shù)k。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述缺陷對(duì)芯片良率的影響越大，所對(duì)應(yīng)的修正系數(shù)k越大。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述每一個(gè)缺陷經(jīng)修正后的數(shù)量為1+k或者1*k，其中，k的范圍為1～w。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述每一個(gè)缺陷經(jīng)修正后的數(shù)量為1+k，其中，所述芯片上具有一顆所述缺陷就需報(bào)廢芯片時(shí)，所述k值為w-1。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種基于致命缺陷修正的缺陷掃描方法，其特征在于，所述每一個(gè)缺陷經(jīng)修正后的數(shù)量為1*k，其中，所述芯片上具有一顆所述缺陷就需報(bào)廢芯片時(shí)，所述k值為w。