[發明專利]一種具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系及制備方法

有效

• 申請號: 201310626318.6
• 申請日: 2013-11-28
• 公開（公告）號: CN104297817A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 劉鳳玉;王一堅;吳曉鳴
• 申請（專利權）人: 中國航空工業集團公司洛陽電光設備研究所
• 主分類號: G02B1/00
• 分類號: G02B1/00;G02B5/28
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 牛愛周

1.一種具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系，其特征在于：該膜系從里到外依次由第1～25層膜層組成，奇數膜層的膜料均為ZnS，偶數膜層的膜料均為YbF₃；第1層、第25層膜層的幾何厚度分別為9～11nm，第2層膜層的幾何厚度為18～20nm，第24層膜層的幾何厚度為1300～1350nm，其余所有奇數膜層的幾何厚度分別為120～130nm，其余偶數膜層的幾何厚度分別為188～198nm。

2.根據權利要求1所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系，其特征在于：該膜系從里到外依次由第1～25層膜層組成，奇數膜層的膜料均為ZnS，偶數膜層的膜料均為YbF₃；第1層、第25層膜層的幾何厚度分別為9.8nm，第2層膜層的幾何厚度為19.5nm，第24層膜層的幾何厚度為1332nm，其余所有奇數膜層的幾何厚度分別為123nm，其余偶數膜層的幾何厚度分別為192.5nm。

3.一種如權利要求1或2所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）鍍制第1層膜層：取ZnS膜料由電阻蒸發源進行蒸鍍，真空度為8×10^-4～2×10^-3Pa，蒸發速率為0.8nm/S～0.9nm/S；

（2）鍍制第2層膜層：取YbF₃膜料由電阻蒸發源進行蒸鍍，真空度為8×10^-4～2×10^-3Pa，蒸發速率為0.7nm/S～0.8nm/S；

（3）重復步驟（1）、（2），交替鍍制第3～25層膜層；

（4）鍍制完畢冷卻至真空室的溫度低于80℃即可。

4.根據權利要求3所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系的制備方法，其特征在于：在步驟（1）鍍制第1層膜層之前，對待鍍零件的鍍膜基底進行清洗和烘烤。

5.根據權利要求4所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系的制備方法，其特征在于：所述的清洗采用超聲波和/或清潔劑。

6.根據權利要求4所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系的制備方法，其特征在于：所述烘烤的具體方法為：將待鍍零件置于高真空鍍膜設備中，抽真空至8×10^-3～2×10^-2Pa，在140～160℃下保溫1～2小時即可。

7.根據權利要求4所述的具有激光高反射率、紅外光高透射率的膜系的制備方法，其特征在于：所述待鍍零件的鍍膜基底為硫化鋅材質。