[發明專利]清潔光掩模板的裝置和方法有效
| 申請號： | 201310625604.0 | 申請日： | 2013-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN103639151A | 公開（公告）日： | 2014-03-19 |
| 發明（設計）人： | 毛智彪 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B08B5/00 | 分類號： | B08B5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陸花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清潔 模板 裝置 方法 | ||
1.一種清潔光掩模板的裝置，其特征在于包括：具有排氣口的腔體；位于所述腔體內的用于固定待清潔光掩模板的平臺；能夠平行于光掩模板表面移動的噴管，所述噴管具有沿著其長度延伸方向布置的一組噴嘴，所述噴管與含離子氣溶劑的產生裝置連接；所述平臺連接靜電導出通道實現電位接地。
2.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述腔體形成一個相對隔絕的空間。
3.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述噴管平行于光掩模板表面移動的行程大于待清潔光掩模板的邊長。
4.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述噴嘴的位置位于噴管底部，且靠近噴管噴射時移動方向的前方。
5.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述噴嘴能夠以噴管的延伸方向為軸心線轉動。
6.如權利要求5所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述噴管能夠以其延伸方向為軸心線轉動和/或噴嘴位于噴管上的角度能夠調整。
7.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述排氣口的排氣量大于噴管的噴氣量。
8.如權利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述含離子氣溶劑的產生裝置包括氣源、冷卻器、真空腔以及離子發生器，所述氣源一方面通過冷卻器連接至真空腔，另一方面通過離子發生器連接至真空腔。
9.如權利要求8所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于：所述含離子氣溶劑的產生裝置還包括用于控制流量和噴速的調節閥。
10.一種如權利要求1所述的裝置的清潔光掩模板的方法，其特征在于包括如下步驟：
a)將待清潔光掩模板放入腔體中的平臺上；
b)開啟含離子氣溶劑的產生裝置；
c)平行移動噴管將含離子氣溶劑均勻地噴射在光掩模板表面；
d)將光掩模板從腔體中取出，并對光掩模板的清潔度進行檢查。
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