[發(fā)明專利]確定平板檢測器的幾何成像性質(zhì)的方法和x射線檢查系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310624529.6 | 申請日: | 2013-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN103852477A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A.蘇佩斯;P.波庫特內(nèi)夫;E.諾伊澤爾;N.羅特 | 申請(專利權(quán))人: | GE傳感與檢測技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 易皎鶴;湯春龍 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 確定 平板 檢測器 幾何 成像 性質(zhì) 方法 射線 檢查 系統(tǒng) | ||
1.一種用于確定x射線檢查系統(tǒng)中平板檢測器(12)的幾何成像性質(zhì)的方法,包括以下步驟:
-將校準(zhǔn)模型(13)布置在x射線源(11)與所述平板檢測器(12)之間,其中所述校準(zhǔn)模型(13)包括至少一個離散幾何對象(30);
-利用所述平板檢測器(12)記錄所述校準(zhǔn)模型(13)的至少一個x射線圖像,其中至少一個離散幾何形狀(32)通過對所述校準(zhǔn)模型(13)的至少一個離散幾何對象(30)成像而在所述x射線圖像中生成;以及
-根據(jù)所述至少一個離散幾何形狀(32)的至少一個特性,從所述至少一個x射線圖像確定所述平板檢測器(12)的位點依賴的失真誤差;
其中,用于確定所述位點依賴的失真誤差的所述至少一個離散幾何形狀(32)的所有特性獨(dú)立于所述校準(zhǔn)模型(13)的尺寸。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,多個離散幾何形狀(32)通過對所述校準(zhǔn)模型(13)的至少一個離散幾何對象(30)成像而在檢測器表面的不同位置處記錄。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中,形成所述幾何形狀(32)的基礎(chǔ)的所述幾何對象(30)是均勻的,并且特性是所述幾何形狀(32)偏離均勻性。
4.如權(quán)利要求2或3所述的方法,其中,形成所述幾何形狀(32)的基礎(chǔ)的所述幾何對象(30)具有相等的大小,并且特性是所述幾何形狀(32)之間的大小偏差。
5.如權(quán)利要求2至4中任一項所述的方法,其中,形成所述幾何形狀(32)的基礎(chǔ)的所述幾何對象(30)具有相等的形狀,并且特性是所述幾何形狀(32)之間的形狀偏差。
6.如權(quán)利要求2至5中任一項所述的方法,其中,形成所述幾何形狀(32)的基礎(chǔ)的所述幾何對象(30)以常規(guī)間隔和/或定期地布置,并且特性是偏離常規(guī)性和/或定期性的幾何形狀(32)的布置。
7.如權(quán)利要求2至6中任一項所述的方法,其中,形成所述幾何形狀(32)的基礎(chǔ)的所述幾何對象(30)布置成互相接觸。
8.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,形成所述幾何形狀的基礎(chǔ)的所述幾何對象是至少一個直線或布置在至少一個直線中,并且特性是所述幾何形狀偏離直線性。
9.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,形成所述幾何形狀的基礎(chǔ)的所述幾何對象是具有恒定直徑的至少一個圓柱形對象,并且特性是所述幾何形狀偏離所述恒定直徑。
10.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述至少一個幾何形狀和/或所述位點依賴的失真誤差的至少一個特性從三維重建的x射線圖像確定。
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