[發明專利]彩膜基板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201310616389.8
• 申請日: 2013-11-27
• 公開（公告）號: CN103823317A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 舒適;谷敬霞;徐傳祥;姚琪;齊永蓮
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/13357;G02F1/1339;G02F1/1333
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置。?

背景技術

近年來，隨著科技的發展，液晶顯示器技術也隨之不斷完善。薄膜場效應晶體管液晶顯示裝置（Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，簡稱TFT-LCD）以其圖像顯示品質好、能耗低、環保等優勢占據著顯示器領域的重要位置。?

其中，TFT-LCD依靠其內部設置的紅色濾色層、綠色濾色層、以及藍色濾色層等彩色濾色層的濾光作用，將光源發出的白光分別轉化為紅、綠、藍等單色光，不同顏色的彩色濾色層分別透射對應顏色波段的光，從而實現TFT-LCD或的彩色顯示。?

發明人在實現本發明的過程中發現，若需要擴大LCD的色域范圍，就得提高彩色濾色層的色彩純度，這樣會降低彩色濾色層的透光率。為了保證TFT-LCD的顯示亮度，還需要提高光源的出光強度，導致TFT-LCD功耗的增加。?

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于提供一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置，能夠在不增加顯示裝置的功耗的同時，提高顯示裝置的色域范圍、透光率。?

為解決上述技術問題，本發明彩膜基板及其制作方法、顯示裝置采用如下技術方案：?

本發明的第一方面提供了一種彩膜基板，包括襯底基板和位于所述襯底基?板上的彩色濾色層，還包括：?

位于所述彩色濾色層之上的量子點層，所述量子點層包括至少三種量子點，所述量子點層中的任一種量子點受到光照激發出對應波段的光。?

進一步的，所述的彩膜基板還包括：?

位于所述彩色濾色層和所述襯底基板之間的黑矩陣。?

進一步的，所述的彩膜基板還包括：?

位于所述量子點層之上的平坦層和隔墊物。?

進一步的，所述量子點層的厚度為0.01～2μm。?

在本發明的技術方案中，由于量子點層靠近所述彩膜基板的入光處，使得進入襯底基板的白光或其他光線首先進入量子點層，激發量子點層中的量子點發出包括紅光、綠光和藍光在內的混合光，之后混合光進入彩色濾色層，彩色濾色層不同顏色的區域濾出不同顏色的光。由于量子點發出的單色光的色彩純度較高，因此無需提高彩色濾色層的色彩純度，從而在不增加顯示裝置的光源的出光強度的同時，提高了顯示裝置的色域范圍和透光率。?

本發明的第二方面提供了一種顯示裝置，包括上述的彩膜基板。?

本發明的第三方面提供了一種彩膜基板的制作方法，所述制作方法包括：?

在襯底基板上形成彩色濾色層；?

在所述彩色濾色層之上形成包括至少三種量子點的量子點層，所述量子點層中的任一種量子點受到光照激發出對應波段的光。?

進一步的，所述在襯底基板上形成彩色濾色層之前，還包括：?

在所述襯底基板上形成黑矩陣；?

所述在襯底基板上形成彩色濾色層包括：?

在所述黑矩陣之上形成彩色濾色層。?

進一步的，所述制作方法還包括：?

在所述量子點層之上形成平坦層和隔墊物。?

進一步的，所述量子點層的厚度為0.01～2μm。?

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。?

圖1為本發明實施例中的彩膜基板的結構示意圖；?

圖2為本發明實施例中的彩膜基板的制作方法的流程圖。?

附圖標記說明：?

1—襯底基板；?????????2—彩色濾色層；???3—量子點層；?

4—黑矩陣；???????????5—平坦層；???????6—隔墊物。?

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。?

實施例一?

本發明實施例提供一種彩膜基板，如圖1所示，該彩膜基板包括襯底基板1和位于所述襯底基板1上的彩色濾色層2，還包括：?