[發(fā)明專利]鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜、含其的電致發(fā)光器件及二者的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310616259.4 | 申請日: | 2013-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN104673294A | 公開(公告)日: | 2015-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周明杰;陳吉星;王平;黃輝 | 申請(專利權(quán))人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/67 | 分類號: | C09K11/67;H01L33/50 |
| 代理公司: | 深圳市隆天聯(lián)鼎知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44232 | 代理人: | 劉抗美;劉耿 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 摻雜 氮鋯酸鎂 發(fā)光 薄膜 電致發(fā)光 器件 二者 制備 方法 | ||
1.一種鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜,其特征在于,所述鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜的化學(xué)通式為MeZr2O2N2∶xMn4+,yTi4+;其中,
MeZr2O2N2是基質(zhì),Mn4+和Ti4+為激活元素;
x的取值范圍為0.01~0.05,y的取值范圍為0.005~0.03;
Me為Mg、Ca、Ba或Sr。
2.如權(quán)利要求1所述的鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜,其特征在于,x取值為0.03,y取值為0.01。
3.一種鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(a)按照摩爾比1:0.5:0.5:x:y,分別稱取MeO,ZrO2,Zr3N4,MnO2和TiO2粉體,經(jīng)過混合均勻后,在900~1300℃下燒結(jié),制成靶材;其中,x的取值范圍為0.01~0.05,y的取值范圍為0.005~0.03;Me為Mg、Ca、Ba或Sr;
(b)將步驟(a)中得到的靶材裝入磁控濺射鍍膜設(shè)備的真空腔體內(nèi),再把襯底裝入所述真空腔體內(nèi),并將所述真空腔體的真空度設(shè)置在?1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa之間;
(c)所述靶材與所述襯底之間的距離為50~90mm;所述襯底的溫度為350℃~750℃;所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作氣體為15~30sccm流量的氬氣,所述氬氣的壓強(qiáng)為0.2~4Pa;通過所述磁控濺射鍍膜設(shè)備和所述靶材在所述襯底進(jìn)行鍍膜,得到薄膜樣品,從而得到化學(xué)通式為MeZr2O2N2∶xMn4+,yTi4+的所述鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜;其中,MeZr2O2N2是基質(zhì),Mn4+和Ti4+為激活元素。
4.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述制備方法還包括步驟(d),所述步驟(d)為:將步驟(c)制得的所述薄膜樣品于500℃~800℃下真空退火處理1~3h。
5.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,在所述的步驟(a)中,x取值均為0.03,y取值均為0.01。
6.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,在所述的步驟(c)中,所述靶材與所述襯底之間的距離為70mm;所述襯底的溫度為500℃;所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作氣體為20sccm流量的氬氣,所述氬氣為1Pa。
7.如權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,在所述的步驟(d)中,所述真空退火溫度為600℃,所述退火時間為2h。
8.一種電致發(fā)光器件,其為復(fù)合層狀結(jié)構(gòu),所述復(fù)合層狀結(jié)構(gòu)依次為玻璃基片、陽極層、發(fā)光層以及陰極層,其特征在于,所述發(fā)光層為鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜,所述鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜的化學(xué)通式為MeZr2O2N2∶xMn4+,yTi4+;其中,
MeZr2O2N2是基質(zhì),Mn4+和Ti4+為激活元素;
x的取值范圍為0.01~0.05,y的取值范圍為0.005~0.03;
Me為Mg、Ca、Ba或Sr。
9.如權(quán)利要求8所述的電致發(fā)光器件,其特征在于,x取值為0.03,y取值為0.01。
10.一種電致發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
首先制備依次層疊的玻璃基片和陽極層;
然后在所述陽極層上通過磁控濺射鍍膜設(shè)備制得鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜,從而形成發(fā)光層,所述鈦摻雜氮鋯酸鎂發(fā)光薄膜的化學(xué)通式為MeZr2O2N2∶xMn4+,yTi4+;其中,MeZr2O2N2是基質(zhì),Mn4+和Ti4+為激活元素;x的取值范圍為0.01~0.05,y的取值范圍為0.005~0.03;Me為Mg、Ca、Ba或Sr;
最后在制得的發(fā)光層蒸鍍一銀層,所述銀層形成陰極層,從而得到所述電致發(fā)光器件。
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