[發明專利]一種檢驗末端淬火試驗噴水高度的測量方法

有效

• 申請號: 201310616196.2
• 申請日: 2013-11-28
• 公開（公告）號: CN103630036A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 蔣弦弋;謝志雄;鐘壽軍;劉金源;李安軍;胡柏上;岳峰;雷中鈺;鄒全林
• 申請（專利權）人: 廣東韶鋼松山股份有限公司
• 主分類號: G01B5/02
• 分類號: G01B5/02
• 代理公司: 韶關市雷門專利事務所 44226
• 代理人: 周勝明

技術領域

本發明屬于末端淬火試驗噴水高度的檢驗技術領域，涉及一種檢驗末端淬火試驗噴水高度的測量方法。

背景技術

淬透性是鋼在一定條件下淬火時獲得淬透層深度的能力，是鋼材的一種重要特性，末端淬火試驗是檢驗鋼材淬透性的一種常用試驗方法。影響淬透性檢驗結果準確度的因素有很多，端部噴水冷卻是試驗的一個重要環節，也是影響試驗結果的重要因素，因此在試驗過程中需要重點控制噴水的高度，水柱的高度直接影響試樣的冷卻狀況，從而影響到最終的試驗結果。因此在試驗過程中應檢驗水柱的高度，確保噴水高度控制在標準或協議要求的范圍。目前的端淬機無水柱高度測量和顯示裝置，操作者只能使用卡尺進行簡單、粗略的測量。但由于端淬機的噴水高度受外部供水的壓力、管道直徑、噴水口的高度、端淬機水位調節器的調整精度、端淬機冷卻水的溫度波動等因素的影響，只要其中一個因素產生變化或波動，水柱高度就會產生變化，加之水是無色的，這些因素都使得水柱高度不容易準確測量。

發明內容

為克服上述的技術缺點，本發明提供一種具有操作簡單可靠、結構簡單、測量直觀、結果準確特點的檢驗末端淬火試驗噴水高度的測量方法。

本發明解決其技術問題所采用的技術方法是：一種檢驗末端淬火試驗噴水高度的測量方法，其測量步驟如下：

第一步：準備兩個一組共三組標準塊，每組標準塊包括一個高水位標準塊和一個低水位標準塊，包括第一組噴水高度為65+10mm的高水位標準塊，第一組噴水高度為65-10mm的低水位標準塊；第二組噴水高度為65+5mm的高水位標準塊，第二組噴水高度為65-5mm的低水位標準塊；第三組噴水高度為65+2.5mm的高水位標準塊，第三組噴水高度為65-2.5mm的低水位標準塊；

第二步：將觸水式水分檢測試紙分別粘貼在標準塊的工作端面上；

第三步：啟動端淬機，觸發噴水口噴水，此時形成水柱，將高水位標準塊輕輕懸掛在端淬機架上，帶有觸水式水分檢測試紙的工作端面朝下放置；若水柱高度達到或超過高水位標準塊的工作端面，試紙觸水立即變色，提示檢驗者水柱高度超出了公差要求的上限，即水柱高度＞75mm，檢驗者此時應調整端淬機的噴水高度，降低至水柱不能觸碰到高水位標準塊的工作端面，此時用粘貼有試紙的低水位標準塊檢驗水柱高度，若試紙變色，說明水柱高度＞55?mm，此時水柱高度在75～55mm之間，符合端淬要求，可進行試驗，反之，試紙沒有變色，說明水柱高度＜55?mm，需要提高水柱高度，再使用第二組和第三組進行重復測試，通過調整和控制噴水高度，只有當水柱能碰觸到低水位標準塊，但不能碰觸到高水位標準塊時，噴水高度在65±10mm之間，以相同的方式使用第二組標準塊和標準塊進行測試，當水柱只能碰觸到低水位標準塊，但不能碰觸到高水位標準塊時，檢驗和控制噴水高度在65±5mm之間；使用第三組標準塊31和低標準塊進行測試，當水柱只能碰觸到低水位標準塊，但不能碰觸到高水位標準塊時，檢驗和控制噴水高度在65±2.5mm。

本發明的有益效果是：運用公差檢驗控制的塞規原理，采用高低兩種不同標準的標準塊進行測量，并在標準塊上黏貼觸水式水分檢測試紙，噴射出的水柱能夠在觸水式水分檢測試紙上直觀靈敏的顯示出來，同時根據顯示出來的范圍能夠更進一步對水柱高度進行調整使其滿足要求，提高了工作效率和保證了端淬結果的準確性，另外設置的三組標準塊，方便了操作者根據產品需要選擇控制不同的噴水高度公差要求，運用本方法能夠嚴格控制噴水高度公差，保證了每一個端淬樣品噴水冷卻的一致性，確保了檢測結果的穩定性和再線性，對于處理有窄帶硬度控制的產品尤其重要。

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附圖說明

圖1為本發明第一組標準塊水柱高度檢測工作原理結構示意圖；

圖2本發明第二組標準塊水柱高度檢測工作原理結構示意圖；

圖3為本發明第三組標準塊水柱高度檢測工作原理結構示意圖。

圖1中：11-高水位標準塊，12-低水位標準塊，3-檢測試紙；

圖2中：21-高水位標準塊，22-低水位標準塊，3-檢測試紙；

圖3中：31-高水位標準塊，32-低水位標準塊，3-檢測試紙。

具體實施方式??????????????????????????????????????????????

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。

參見圖1，一種檢驗末端淬火試驗噴水高度的測量方法，其測量步驟如下：