[發(fā)明專利]具有周期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜的瑕疵檢測(cè)方法及其檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310612596.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103630547A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱錦勛;游莉敏;陳威仰;高志遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215121 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 周期性 結(jié)構(gòu) 光學(xué)薄膜 瑕疵 檢測(cè) 方法 及其 裝置 | ||
1.一種用于檢測(cè)具有周期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于該瑕疵檢測(cè)方法包括以下步驟:
(A)于具有周期性結(jié)構(gòu)的待檢測(cè)光學(xué)薄膜上擷取原始影像,該原始影像具有m個(gè)周期的周期性結(jié)構(gòu),其中m為正數(shù);
(B)從該原始影像中擷取子影像,該子影像具有n個(gè)周期的周期性結(jié)構(gòu),其中n為正數(shù),且n<m;
(C)從該原始影像中擷取比對(duì)影像,該比對(duì)影像具有n組重復(fù)排列的結(jié)構(gòu),其中n為正數(shù),n<m,該比對(duì)影像的擷取位置與該子影像的擷取位置不同,但該比對(duì)影像的面積與該子影像的面積相同;
(D)將該子影像與該比對(duì)影像進(jìn)行影像處理以得到處理影像;
(E)計(jì)算該處理影像的平均灰階值;以及
(F)分析該平均灰階值以判斷該子影像所對(duì)應(yīng)的光學(xué)薄膜是否具有瑕疵。
2.如權(quán)利要求1所述的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于該影像處理包含影像相減及/或影像濾除。
3.如權(quán)利要求2所述的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于該子影像與該比對(duì)影像相減以得到第一處理影像,若該第一處理影像具有該比對(duì)影像所具有的瑕疵,則進(jìn)行影像濾除,以濾除掉該瑕疵。
4.如權(quán)利要求1所述的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于當(dāng)該處理影像的平均灰階值不為0時(shí),則表示該子影像所對(duì)應(yīng)的光學(xué)薄膜具有瑕疵。
5.如權(quán)利要求1所述的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于該具有周期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜為相位延遲膜或?qū)Ч獍濉?/p>
6.如權(quán)利要求1所述的瑕疵檢測(cè)方法,其特征在于該周期性結(jié)構(gòu)包含至少兩種紋理結(jié)構(gòu),且該至少兩種紋理結(jié)構(gòu)相互平行且重復(fù)排列。
7.一種用于檢測(cè)具有周期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜的瑕疵檢測(cè)裝置,其特征在于該瑕疵檢測(cè)裝置包括:
光學(xué)攝像單元,用以于待檢測(cè)的光學(xué)薄膜上擷取原始影像,并從該原始影像擷取子影像及比對(duì)影像;
影像處理單元,耦接于該光學(xué)攝像單元,該影像處理單元用以將該子影像與該比對(duì)影像進(jìn)行影像處理以得到處理影像;
灰階值計(jì)算單元,耦接于該影像處理單元,該灰階值計(jì)算單元用以計(jì)算該處理影像的平均灰階值;以及
分析單元,耦接于該灰階值計(jì)算單元,該分析單元分析該平均灰階值以判斷該子影像所對(duì)應(yīng)的該光學(xué)薄膜是否具有瑕疵。
8.如權(quán)利要求7所述的瑕疵檢測(cè)裝置,其特征在于該影像處理單元還包括影像相減單元及/或影像濾除單元。
9.如權(quán)利要求7所述的瑕疵檢測(cè)裝置,其特征在于該具有周期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜為相位延遲膜或?qū)Ч獍濉?/p>
10.如權(quán)利要求7所述的瑕疵檢測(cè)裝置,其特征在于該周期性結(jié)構(gòu)包含至少兩種紋理結(jié)構(gòu),且該至少兩種紋理結(jié)構(gòu)相互平行且重復(fù)排列。
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G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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