[發明專利]一種光學擴散膜片制作方法

有效

• 申請號: 201310611944.8
• 申請日: 2013-11-26
• 公開（公告）號: CN104626528B
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 李企桓
• 申請（專利權）人: 逢甲大學
• 主分類號: B29C59/02
• 分類號: B29C59/02;G02B5/02
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司11274
• 代理人: 王晶

1.一種光學擴散膜片制作方法，其步驟包括:

A.一刀具刻畫一模仁時，于模仁表面刻畫第一維度方向正交第二維度方向夾角大于0度且小于90度，形成具有波峰與波谷格子狀一凹凸結構，周期為1μm～1m之間，波峰與波谷的深度差在1μm～1mm之間；

B.將涂布膠的一膜片，經由模仁于膜片表面壓印，并同時利用一光源曝光固化，于膜片表面形成與凹凸結構相對應的結構；

C.對膜片進行裁切。

2.根據權利要求1所述的光學擴膜散片制作方法，其特征在于在步驟A中所述凹凸結構經由二次或三次的刻畫加工形成二維的格子狀結構。

3.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A所述模仁為一滾筒模仁或一平面模仁。

4.根據權利要求3所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于所述滾筒模仁為塑料、金屬或金屬合金材質。

5.根據權利要求3所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于所述平面模仁為塑料、金屬或金屬合金材質。

6.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述刀具為鉆石、金屬或金屬合金。

7.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述刀具刻畫模仁，可以相同深度刻畫或是變化刻畫的深度，于模仁表面形成凹凸結構。

8.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述凹凸結構為正弦形、非球面形或多邊形。

9.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟B中所述膜片為聚丙烯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯或聚甲基丙烯酸。

10.根據權利要求1所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟B中所述光源為紫外線、黃光、紅外線、X射線、伽馬射線或電子束。

11.一種光學擴散膜片制作方法，其特征在于包括如下步驟:

A.一刀具刻畫一模仁時，于模仁表面刻畫第一維度方向正交第二維度方向夾角大于0度且小于90度，形成具有波峰與波谷格子狀一凹凸結構，周期為1μm～1m之間，波峰與波谷的深度差在1μm～1mm之間；

B.將涂布膠的一膜片，經由模仁于膜片表面壓印，并同時利用熱壓轉印，于膜片表面形成與凹凸結構相對應的結構；

C.對膜片進行裁切。

12.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述凹凸結構經由二次或三次的刻畫加工形成二維的格子狀結構。

13.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述模仁為一滾筒模仁或一平面模仁。

14.根據權利要求13所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于所述滾筒模仁為塑料、金屬或金屬合金材質。

15.根據權利要求13所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于所述平面模仁為塑料、金屬或金屬合金材質。

16.根據權利要求11所述的光學擴散膜片的制作方法，其特征在于在步驟A中所述刀具為鉆石、金屬或金屬合金。

17.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述刀具刻畫模仁，可以相同深度刻畫或是變化刻畫的深度，于模仁表面形成凹凸結構。

18.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟A中所述凹凸結構為正弦形、非球面形或多邊形。

19.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于在步驟B中所述膜片為聚丙烯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯或聚甲基丙烯酸。

20.根據權利要求11所述的光學擴散膜片制作方法，其特征在于步驟B中熱壓溫度為360K至480K之間。