[發明專利]一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構

有效

• 申請號: 201310611767.3
• 申請日: 2013-11-27
• 公開（公告）號: CN103604534A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 唐潔影;王磊;蔣明霞
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: G01L1/14
• 分類號: G01L1/14
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 楊曉玲

1.一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構，其特征在于：包括襯底（1）、兩塊下極板（2）和上極板（3）、兩個輔助旋轉結構和三個錨區；

所述下極板（2）沉積于襯底（1）上表面；

所述三個錨區（7）置于襯底（1）上；

所述上極板（3）懸置在下極板（2）上方；

所述兩個輔助旋轉結構分別是左輔助旋轉結構和右輔助旋轉結構，兩個輔助旋轉結構完全相同；其中，左輔助旋轉結構包括左橫梁（41）、左縱梁（51）和兩個輔助橫梁（6）；左橫梁（41）的右端連接上極板（3）左側，左橫梁（41）的左端連接左縱梁（51），所述左橫梁（41）與左縱梁（51）垂直；左縱梁（51）的兩側分別連接一個輔助橫梁（6），連接左縱梁左側的輔助橫梁的另一端固定在錨區（71）右側，連接左縱梁右側的輔助橫梁的另一端固定在錨區（73）左側；

所述右輔助旋轉結構包括右橫梁（42）、右縱梁（52）、和兩個輔助橫梁（6）；所述右橫梁（42）的左端連接上極板（3）右側，右橫梁（42）的右端連接右縱梁（52），所訴右橫梁（42）與右縱梁（52）垂直；右縱梁（52）的兩側分別連接一個輔助橫梁（6），連接右縱梁右側的輔助橫梁的另一端固定在錨區（72）左側，連接右縱梁左側的輔助橫梁的另一端固定在錨區（73）右側；

所述左橫梁（41）和右橫梁（42）位于同一平面且不在同一水平線上；

所述四個輔助橫梁（6）位于同一平面且不在同一水平線上；

所述上極板（3）與兩個輔助結構位于同一平面，該平面與襯底（1）平行；

所述兩塊下極板（2）分別位于上極板（3）前后兩端的下方；兩塊下極板（2）的同一側與上極板（3）對齊，另一側超出上極板（3）的覆蓋范圍；兩塊下極板（2）被上極板（3）遮蔽的面積相同；

所述下極板（2）與上極板（3）之間分別形成平板電容C1和C2。

2.如權利要求1所述的一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構，其特征在于：所述下極板（2）上涂覆有介質薄層，該介質薄層材料為氮化硅。

3.如權利要求1所述的一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構，其特征在于：所述下極板（2）材料為摻雜多晶硅。

4.如權利要求1所述的一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構，其特征在于：所述兩塊下極板（2）為兩個完全相同的矩形。

5.如權利要求1所述的一種增強型偏轉電容式表面微機械加工殘余應力測試結構，其特征在于：所述下極板（2）和上極板（3）的材料相同。