[發明專利]一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構在審
| 申請號: | 201310608707.6 | 申請日: | 2013-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN104659121A | 公開(公告)日: | 2015-05-27 |
| 發明(設計)人: | 趙晨;周利榮 | 申請(專利權)人: | 上海神舟新能源發展有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 上海科盛知識產權代理有限公司 31225 | 代理人: | 葉敏華 |
| 地址: | 201112 上海市閔行*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鈍化 電池 結構 | ||
技術領域
本發明涉及背鈍化太陽能電池片,尤其是涉及一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構。
背景技術
為解決硅片厚度降低所帶來的問題,背鈍化膜具有十分明顯的作用:1)背鈍化膜通常具有固定負電荷,起到降低背面復合的作用;2)背鈍化膜同時起到背面反射器的作用,可以有效提高對長波段光的吸收;3)背鈍化膜介于硅基體和背面金屬之間,可以有效的降低電池片燒結后的翹曲度。
背鈍化膜對背面復合的降低主要通過以下兩個方面實現:
(1)化學鈍化作用:鈍化層中原子態的氫飽和硅片表面懸掛鍵,從而起到化學鈍化作用,包括SiNx鈍化層和ALD-Al2O3鈍化層。
(2)場鈍化效應:鈍化層中含有一些固定電荷,這些固定電荷會產生場鈍化效應,排斥一種載流子,使電子和空穴不能同時到達背面而產生復合。包括SiNx、SiO2(固定正電荷)和Al2O3(固定負電荷)。
常用的背鈍化膜為氧化鋁、氧化硅以及氮化硅薄膜,通常背鈍化電池的制作流程為:制絨清洗、擴散制備p-n結、背面拋光、正面沉積氮化硅、背面沉積背鈍化膜、背鈍化膜開孔(線)、金屬化及燒結。
其中背鈍化膜開孔的設計關系到背面鋁漿與硅基體的接觸性能,對背鈍化電池的效率表現具有十分重要的影響。開孔的大小,形狀及分布狀態對后續電池電性能表現具有直接影響。
發明內容
本發明的目的就是為了提供一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構,以改善背面鋁漿與硅基體的接觸效果,提高背鈍化電池的效率表現。
本發明的目的可以通過以下技術方案來實現:
一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構,背鈍化膜上開設有開孔,開孔的形狀包括圓形、三角形、矩形、橢圓形或多邊形,每個開孔的面積為100um2~106um2,開孔的深度為10nm~10um。
開孔分布的形狀包括圓形分布、矩形分布或橢圓形分布。
開孔之間均勻分布、交錯分布或隨機分布。
開設開孔的方式包括化學腐蝕、激光燒灼或光刻蝕。
與現有技術相比,本發明中的背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構能夠改善背面鋁漿與硅基體的接觸效果,提高背鈍化的電池的電性能表現。
提高接觸效果的主要原因為本發明中的開孔結構比現有技術具有更均勻的接觸分布,其在電性能上的提高如下表所示:
附圖說明
圖1為實施例1中開孔的分布形狀示意圖;
圖2為實施例2中開孔的分布形狀示意圖。
圖中,1為背鈍化膜,2為開孔。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施例對本發明進行詳細說明。
實施例1
一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構,如圖1所示,背鈍化膜1上開設有開孔2,開孔2的形狀包括圓形、三角形、矩形、橢圓形或多邊形,每個開孔的面積為100um2~106um2,開孔2的深度為10nm~10um。開孔2分布的形狀為矩形分布。開設開孔的方式包括化學腐蝕、激光燒灼或光刻蝕。
本實施例在電性能上的提高如下表所示:
實施例2
一種背鈍化電池中背鈍化膜的開孔結構,如圖2所示,背鈍化膜1上開設有開孔2,開孔2的為圓形,每個開孔的面積為100um2~106um2,開孔2的深度為10nm~10um。開孔2分布的形狀為圓形分布。開設開孔的方式包括化學腐蝕、激光燒灼或光刻蝕。
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





