[發明專利]一種等離子體循環處理裝置

有效

• 申請號: 201310607640.4
• 申請日: 2013-11-27
• 公開（公告）號: CN103594318A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 沈文凱;王紅衛
• 申請（專利權）人: 蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 孟宏偉

1.?一種等離子體循環處理裝置，其特征在于，包括反應箱、循環箱、電極組件和等離子體發生器，所述反應箱上部與所述循環箱連通，所述反應箱下部與所述循環箱連通，所述循環箱頂部設置有用于排氣的抽氣口，所述循環箱底部和所述反應箱底部設置有用于通入反應氣體的氣體入口，所述反應箱壁體上設置有電極組件，所述電極組件與所述等離子體發生器電連接。

2.?根據權利要求1所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，所述反應箱與所述循環箱下部連通處設置有用于粉體材料流通的連接件。

3.?根據權利要求2所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，所述連接件包括直管和沿所述直管一端延伸與水平面夾角A設置的折彎管。

4.?根據權利要求3所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，所述夾角A為10°～90°。

5.?根據權利要求1所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，所述等離子體發生器包括電源和與所述電源連接的匹配器，所述匹配器與所述電極組件電連接。

6.?根據權利要求1-5任一所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，還包括用于抽真空的真空泵，所述真空泵與所述抽氣口連接，所述真空泵與所述抽氣口之間還設置有冷卻箱。

7.?根據權利要求6所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，還包括用于提供反應氣體的氣源，所述氣源與所述氣體入口連接。

8.?根據權利要求7所述的等離子體循環處理裝置，其特征在于，還包括用于分布反應氣體的氣體分布板，所述氣體分布板設置于所述氣體入口上方，氣體分布板上設置有若干氣孔。